[發明專利]一種制備高純氫氧化鎂的方法無效
| 申請號: | 200810079319.2 | 申請日: | 2008-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN101362603A | 公開(公告)日: | 2009-02-11 |
| 發明(設計)人: | 胡永琪;劉潤靜;劉寶樹;胡慶福;趙風云;趙華 | 申請(專利權)人: | 河北科技大學 |
| 主分類號: | C01F5/22 | 分類號: | C01F5/22 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 050018河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 高純 氫氧化鎂 方法 | ||
1、一種制備高純氫氧化鎂的方法,其特征在于它包括以下步驟:
①將生石灰在化灰器中用熱水消化、除雜,得到石灰乳液,并將石灰乳液調配成溶液,其中Ca(OH)2的濃度為60~200g/l;
②將含氯化鎂原料配制成濃度為0.2~4.0mol/l?MgCl2的溶液;
③將步驟②配制的氯化鎂溶液移入反應器中,然后將Ca(OH)2濃度為60~200g/l的石灰乳緩慢滴加到反應器中,石灰乳的加入量為Ca(OH)2:MgCl2的摩爾比為1.01~1.10:1.00,反應溫度為35℃~85℃,反應時間為0.5~4.0h,反應完成后進行過濾并達到固液分離,得到固體濾餅和濾液;
④將步驟③得到的濾餅與步驟②配制的氯化鎂溶液混合并進行打漿,氯化鎂溶液用量為其中氯化鎂與濾餅中氫氧化鈣的摩爾比為1.01~1.10:1.00,將漿液置于裝有外加物理場發生裝置的反應器中進行精制反應,反應溫度35℃~85℃,反應時間0.2~2h,然后將反應漿液過濾,得氫氧化鎂濾餅;
⑤用清水將步驟④得的濾餅進行打漿洗滌,攪拌0.5h左右,然后過濾進行固液分離,所得濾液收集后留作下一次操作時對步驟④得的濾餅進行初步洗滌的洗液,以減少洗滌用清水的消耗;
⑥經洗滌后的氫氧化鎂濾餅進行干燥,即得高純氫氧化鎂產品;
⑦將步驟③得的含氯化鈣的濾液進行蒸發、冷卻、結晶,即得氯化鈣副產品;
所述外加物理場發生裝置為電磁場發生裝置、微波發生裝置、超聲波發生裝置中的一種或幾種。
2、如權利要求1所述的制備高純氫氧化鎂的方法,其特征在于:所用含氯化鎂原料是水氯鎂石、鹵塊、鹵片、鹵粉、鹽湖苦鹵或鹵水中的一種。
3、如權利要求1所述的制備高純氫氧化鎂的方法,其特征在于:步驟③和步驟④的反應溫度控制在55℃~80℃之間。
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