[發明專利]反射防止膜、光學元件及光學系統

無效

• 申請號: 200810074202.5
• 申請日: 2008-02-13
• 公開（公告）號: CN101271166A
• 公開（公告）日: 2008-09-24
• 發明（設計）人: 寺山悅夫
• 申請（專利權）人: 富士能株式會社
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02B7/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 李貴亮

1.一種光學元件，其特征在于，

備有：

光學構件；

其它光學構件；

粘結層；

設置在所述光學部件和所述粘接層之間并至少包含從上述粘接層側依次層疊的第1至第6層的多層膜，

所述光學構件和所述其它光學構件通過該粘結層而接合，

上述多層膜的整體的等價折射率，比上述光學部件的折射率低，且比上述粘接層的折射率高，

上述第2、第4及第6層的折射率比上述第1及第3層的折射率高，且比上述第5層的折射率低。

2.根據權利要求1所述的光學元件，其特征在于，

進一步滿足以下所有的條件式(1)～(6)：

0.06×λ0≤N1·d1≤0.11×λ0……(1)

0.07×λ0≤N2·d2≤0.13×λ0……(2)

0.06×λ0≤N3·d3≤0.18×λ0……(3)

0.31×λ0≤N4·d4≤0.43×λ0……(4)

0.04×λ0≤N5·d5≤0.09×λ0……(5)

0.06×λ0≤N6·d6≤0.18×λ0……(6)

這里，

λ0：中心波長

N1～N6：在從第1至第6層對中心波長λ0的折射率；

d1～d6：從第1至第6層的物理性膜厚。

3.根據權利要求1或2所述的光學元件，其特征在于，

上述第1及第3層，由對d線顯示出1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料而構成，

上述第2、第4及第6層，由對d線顯示出1.55以上1.85以下的折射率的中間折射率材料而成，

上述第5層，由對d線顯示出1.70以上2.50以下的范圍內比上述中間折射率材料更高的折射率的高折射率材料而構成。

4.根據權利要求1所述的光學元件，其特征在于，

在上述第6層的光學部件側，依次層疊有第7層和第8層，

上述第7層的折射率比上述第1至第4及第6層的高，

上述第8層的折射率比上述第1及第3層的折射率高，且比上述第5及第7層的折射率低。

5.根據權利要求4所述的光學元件，其特征在于，

而且，同時滿足以下的條件式(7)及(8)，

0.05×λ0≤N7·d7≤0.14×λ0……(7)

0.04×λ0≤N8·d8≤0.07×λ0……(8)

其中，

λ0：中心波長，

N7、N8：第7層和第8層的對中心波長λ0的折射率，

d7、d8：第7層及第8層的物理膜厚。

6.根據權利要求4或5所述的光學元件，其特征在于，

上述第1及第3層，由對d線顯示出1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料而構成，

上述第2、第4、第6及第8層，由對d線顯示出1.55以上1.85以下的折射率的中間折射率材料而構成，

上述第5及第7層，由對d線顯示出1.70以上2.50以下的范圍內比上述中間折射率材料還高的折射率的高折射率材料而成。

7.根據權利要求3或6所述的光學元件，其特征在于，

上述低折射率材料包含氟化鎂(MgF₂)、二氧化硅(SiO₂)及氟化鋁(AlF₃)中的至少一種，

上述中間折射率材料包含鋁酸鐠(PrAlO₃)、鋁酸鑭(La_2XAl_2YO_3(X+Y))、三氧化二鋁(Al₂O₃)、氧化鍺(GeO₂)、三氧化二釔(Y₂O₃)中的至少一種，

上述高折射率材料包含鈦酸鑭(LaTiO₃)、氧化鋯(ZrO₂)、二氧化鈦(TiO₂)、五氧化二鉭(Ta₂O₅)、五氧化二鈮(Nb₂O₅)、氧化鉿(HfO₂)、二氧化鈰(CeO₂)中的至少一種。