[發明專利]一種薄片或超薄片標準具制作方法

無效

• 申請號: 200810071690.4
• 申請日: 2008-08-28
• 公開（公告）號: CN101349774A
• 公開（公告）日: 2009-01-21
• 發明（設計）人: 吳礪;凌吉武;邱英;陳衛民
• 申請（專利權）人: 福州高意通訊有限公司
• 主分類號: G02B5/28
• 分類號: G02B5/28;G02B1/10;B32B37/12
• 代理公司: 廈門市誠得知識產權代理事務所
• 代理人: 方惠春;黃國強

技術領域

本發明涉及激光制作領域，尤其涉及該領域的一種薄片或超薄片標準具的制作方法。

背景技術

在激光領域中，標準具可以運用于光纖通訊制作寬帶可調濾光片，也可以運用于光學檢測領域制作可調諧激光器。但傳統標準具一般較厚，以保證鍍反射膜不易變形，而一般超薄實心標準具由于太薄，制作和擦拭易碎，操作很不方便，同時鍍膜層易變形，亦不易夾持。在光纖通訊領域，人們往往需要50nm-200nm的帶寬的濾光片，在可調諧激光器中，往往亦需要幾十-幾百nm濾光片，這往往需要微米數量級厚的標準具，采用傳統方式則不易制作或無法制作。

發明內容

為解決上述問題，本發明提供一種方法制作微米數量級厚的標準具。

為實現上述目的，本發明的一種薄片或超薄片標準具制作方法，包含如下步驟：

步驟11，第一光學基片一表面鍍第一部分反射膜，第二光學基片一表面鍍光膠膜；

步驟12，通過深化光膠方式將鍍有第一部分反射膜的第一光學基片表面與鍍有光膠膜的第二光學基片表面粘結成為一體；

步驟13，將第二光學基片通過光學加工成薄片；

步驟14，將第二光學基片非鍍有光膠膜面鍍第二部分反射膜；

或者步驟14可以為：

步驟151，第三光學基片一表面鍍第二部分反射膜；

步驟152，通過深化光膠方式將鍍有第二部分反射膜的第三光學基片(30)與加工成薄片的第二光學基片粘結成為一體。

本發明的另一種薄片或超薄片標準具制作方法，包含如下步驟：

包含如下步驟：

步驟21，將第二光學基片通過光學加工成薄片；

步驟22，將第一光學基片一表面鍍第一部分反射膜，第二光學基片一表面鍍光膠膜；

步驟23，通過深化光膠方式將鍍有第一部分反射膜的第一光學基片表面與加工成薄片且鍍有光膠膜的第二光學基片表面粘結成為一體；

步驟24，將第二光學基片非鍍有光膠膜面鍍第二部分反射膜；

或者步驟24可以為：

步驟251，第三光學基片一表面鍍第二部分反射膜；

步驟252，通過深化光膠方式將鍍有第二部分反射膜的第三光學基片與加工成薄片的第二光學基片粘結成為一體。

為提高大規模生產效率，可以利用上述的制作方法制作大片薄片或超薄片標準具后，再切割成小片薄片或超薄片標準具。

采用本發明能夠解決采用傳統方式不易制作或無法制作的微米量級厚的標準具的技術難題。

附圖說明

圖1是本發明實施例一示意圖；

圖2是本發明實施例二示意圖。

具體實施方式

現結合附圖說明對本發明進一步說明。

如圖1所示，本發明的一種薄片或超薄片標準具制作方法，包含如下步驟：

步驟11，第一光學基片(10)一表面鍍第一部分反射膜(101)，第二光學基片(20)一表面鍍光膠膜(201)；

步驟12，通過深化光膠方式將鍍有第一部分反射膜(101)的第一光學基片(10)表面與鍍有光膠膜(201)的第二光學基片(20)表面粘結成為一個整體體；

步驟13，將第二光學基片(20)通過光學加工成薄片；薄片厚度根據要求制作加工。

步驟14，將第二光學基片(20)非鍍有光膠膜面的另一面鍍上第二部分反射膜(301)；

或者步驟14可以用下列的步驟151和步驟152實現另一種的標準具結構：

步驟151，第三光學基片(30)一表面鍍第二部分反射膜(301)；

步驟152，通過深化光膠方式將鍍有第二部分反射膜(301)的第三光學基片(30)與加工成薄片的第二光學基片(20)粘結成為一體。

如圖2所示，為本發明的另一種薄片或超薄片標準具制作方法，包含如下步驟：

包含如下步驟：

步驟21，將第二光學基片(20)通過光學加工成薄片；薄片厚度根據要求制作加工。

步驟22，將第一光學基片(10)一表面鍍第一部分反射膜(101)，第二光學基片(20)一表面鍍光膠膜(201)；

步驟23，通過深化光膠方式將鍍有第一部分反射膜(101)的第一光學基片(10)表面與加工成薄片且鍍有光膠膜(201)的第二光學基片(20)表面粘結成為一體；

步驟24，將第二光學基片(20)非鍍有光膠膜面鍍第二部分反射膜(301)；

或者步驟24可以用下列的步驟251和步驟252實現另一種的標準具結構：