[發(fā)明專利]一種非線性光學晶體乙二銨五硼酸鋁及其制備和用途無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810071335.7 | 申請日： | 2008-07-03 |
| 公開（公告）號： | CN101619498A | 公開（公告）日： | 2010-01-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 楊國昱;榮成 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所 |
| 主分類號： | C30B29/54 | 分類號： | C30B29/54;C30B7/10;G02B1/04;G02F1/361;H01S3/16 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 350002福*** | 國省代碼： | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 非線性 光學 晶體 乙二銨五 硼酸 及其 制備 用途 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種非線性光學晶體乙二銨五硼酸鋁，其特征在于：其化學式為 [Al(B4O9)(BO)]·NH3CH2CH2NH3，分子量為：303.15，屬單斜晶系，空間群 Pc?No.7，單胞參數(shù)為a＝6.667(4)，b＝8.151(4)，α＝γ＝90°，β ＝97.949(8)°，Z＝2。
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