[發明專利]高耐蝕的納米復合鍍層的制備方法

有效

• 申請號: 200810070843.3
• 申請日: 2008-03-28
• 公開（公告）號: CN101250732A
• 公開（公告）日: 2008-08-27
• 發明（設計）人: 余水;關棟云
• 申請（專利權）人: 廈門建霖工業有限公司
• 主分類號: C25D5/12
• 分類號: C25D5/12;C25D5/34;C25D3/06
• 代理公司: 廈門南強之路專利事務所
• 代理人: 馬應森

1.高耐蝕的納米復合鍍層的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

1)將基材預處理，所述的基材為銅基材；

2)在預處理后的基材上電鍍非晶納米復合鎳層；

3)在納米復合鎳層上鍍鉻；

所述銅基材的預處理包括以下步驟：

1)化學除油；

2)第一次水洗；

3)酸活化；

4)第二次水洗；

所述化學除油的工藝配方為：NaOH為10～20g/L，Na₃PO₄為20～30g/L，K₂CO₃為8～12g/L；化學除油的溫度為50～60℃，采用PP槽和超聲波振蕩器進行超聲波化學除油，電流為2～8A，化學除油的時間為3～5min。

2.如權利要求1所述的高耐蝕的納米復合鍍層的制備方法，其特征在于第一次水洗為純水漂洗，漂洗的溫度為20～50℃，漂洗的時間為1～2min。

3.如權利要求1所述的高耐蝕的納米復合鍍層的制備方法，其特征在于酸活化的工藝配方為：過硫酸銨為2～3g/L，硫酸為20～30ml/L；酸活化的溫度為室溫，酸活化的時間為0.5～1min。

4.如權利要求1所述的高耐蝕的納米復合鍍層的制備方法，其特征在于在預處理后的基材上電鍍非晶納米復合鎳層的鍍液配方為：硫酸鎳為270～310g/L，氯化鎳為45～55g/L，硼酸為35～45g/L，納米鎳磷合金粉漿料為0.1～5g/L，光亮劑MP-311為2～5ml/L，光亮劑MP-333為5～15ml/L，光亮劑MP-366為0.5～1ml/L，pH為4～5，電流密度為3～6A/dm²，溫度為50～60℃，時間為5～10min，攪拌緩慢均勻的空氣攪拌或超聲波攪拌。

5.如權利要求1所述的高耐蝕的納米復合鍍層的制備方法，其特征在于納米鎳磷合金粉漿料采用以下方法制備：

將納米鎳磷合金粉放入容器中，用移液管移入表面活性劑，再加入水作為分散介質，超聲波細胞粉脆分散1～2h；按質量比，納米鎳磷合金粉∶表面活性劑∶超純水＝100∶(5～10)∶200。

6.如權利要求5所述的高耐蝕的納米復合鍍層的制備方法，其特征在于表面活性劑選自聚乙烯吡咯烷酮，氟碳表面活性劑FC-203，十二烷基硫酸鈉，CTAB，P-998中的一種或者兩種的組合。

7.如權利要求1所述的高耐蝕的納米復合鍍層的制備方法，其特征在于在納米復合鎳層上鍍鉻采用常規電鍍光鉻工藝進行，鍍液配方采用CrO₃為10～30g/L，H₂SO₄為0.8～1.2g/L，Cr³⁺為1～2g/L，電鍍的溫度為38～42℃，電流密度為8A/dm²，電鍍的時間為1～3min。