[發明專利]多工位軸瓦磁控濺射鍍膜裝置

有效

• 申請號: 200810069493.9
• 申請日: 2008-03-24
• 公開（公告）號: CN101280421A
• 公開（公告）日: 2008-10-08
• 發明（設計）人: 冀慶康;劉萍;竇運林;朱奎;吳文俊
• 申請（專利權）人: 重慶躍進機械廠有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 重慶市前沿專利事務所
• 代理人: 郭云

1.?一種多工位軸瓦磁控濺射鍍膜裝置，包括真空室(1)、磁控靶(2)和濺射電源，其特征在于：所述真空室(1)為雙層結構，固定在基座(3)上的中心位置，所述磁控靶(2)至少為四只，包括至少兩只直徑不同的鋁合金靶和至少兩只直徑不同的鎳靶，另有至少兩只橫截面分別呈“一”字形和“十”字形的反濺靶(4)，所述磁控靶(2)和反濺靶(4)周向均勻分布在真空室(1)上部，所述磁控靶(2)和反濺靶(4)的軸心分別裝有與靶電機(5)相連的旋轉軸；在所述真空室(1)下部中心設有轉盤(7)，在該轉盤(7)上與所述各靶相對處固定有雙層結構的瓦桶(8)，其中一只瓦桶(8)的內孔橫截面為四段相同圓弧構成的梅花形，其余各只瓦桶(8)的內孔為直徑不同的圓筒形，所述各瓦桶(8)的底部轉盤上設有通孔(7a)；所述轉盤(7)下表面中心固定有升降旋轉軸(9)，該升降旋轉軸(9)從所述真空室(1)底部穿出進入所述基座(3)與升降旋轉機構相連；在所述轉盤(7)下方的反濺靶(4)相對處設有與電極軸(10)相連的反濺電極(11)，該電極軸(10)下端位于基座(3)內與電極升降機構相連；所述真空室(1)內壁上設有大、小分子泵(12，13)以及機械泵(14)的進氣口，在所述磁控靶(2)和反濺靶(4)的心部、瓦桶(8)和真空室(1)的內外壁間均裝有冷卻水，冷卻水由溫控系統控制且通過進、出水管實現循環。

2.?根據權利要求1所述的多工位軸瓦磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述磁控靶(2)的第一旋轉軸(6)為上端設有進水管且下端為敞口的空心管，第一旋轉軸(6)外圓柱面上固定有磁體(15)，該磁體(15)外空套有固定在真空室(1)上的內管(16)，所述內管(16)下端封口且外圓柱面上緊固有圓柱靶(17)，所述內管(16)上端設有出水管，在所述第一旋轉軸(6)和內管(16)內裝有冷卻水。

3.?根據權利要求1所述的多工位軸瓦磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述反濺靶(4)的第二旋轉軸(26)為下端封口且裝有冷卻水的空心管，該第二旋轉軸(26)上設有進、出水管，第二旋轉軸(26)外表面固定有不銹鋼片狀靶(18)。

4.?根據權利要求1所述的多工位軸瓦磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述升降旋轉機構包括固定在真空室(1)底部的轉盤升降支承(19)，該支承上豎直固定有兩主導軌(20)及主導軌(20)間的主絲桿(21)，所述主絲桿(21)下端依次通過第一聯軸節(22)、第一變速器(23)與固定在主導軌(20)下的轉盤升降電機(24)相連，所述主絲桿(21)上套有與升降旋轉軸支承(25)固定的螺母座(27)，該螺母座(27)上設有兩滑槽與所述主導軌(20)相配合；所述升降旋轉軸(9)下端通過軸承安裝在升降旋轉軸支承(25)內，該支承下端通過連接套(28)與第二變速器(29)連接，所述第二變速器(29)的輸出軸通過第二聯軸節(30)與升降旋轉軸(9)底端連接，所述第二變速器(29)的輸入軸與轉盤旋轉電機(31)相連，所述升降旋轉軸(9)上裝有上、下接近開關擋板。

5.?根據權利要求1所述的多工位軸瓦磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述電極升降機構包括固定在真空室(1)底部的電極升降支承(32)，該支承上豎直固定有電極導軌(33)和電極絲桿(34)，所述電極絲桿(34)下端通過第三聯軸節(35)與連接有電極升降電機(36)的第三變速器(37)相連，所述電極絲桿(34)上套有固定在活動導軌(39)中部的螺母(40)，該活動導軌(39)通過螺栓與電極軸支承(38)連接且與所述電極導軌(33)相配合，所述電極軸支承(38)固套在電極軸(10)的下端。

6.?根據權利要求1所述的多工位軸瓦磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：在所述梅花形瓦桶(8)的四個相同圓弧柱連接處設有可更換的擋板(8a)。

7.?根據權利要求1所述的多工位軸瓦磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述靶電機(5)以及所述升降旋轉機構、電極升降機構中所包括的電機均為混合式步進電機，且由工控機控制，工控機和可編程控制器構成控制系統。