[發明專利]印制電路板堿性蝕刻廢液中砷的去除方法有效
| 申請號： | 200810068396.8 | 申請日： | 2008-07-11 |
| 公開（公告）號： | CN101333025A | 公開（公告）日： | 2008-12-31 |
| 發明（設計）人： | 陳志傳;陳昌銘;宋傳京;毛諳章;廖蔚峰;譚兆堅;溫炎燊;李玉清;劉艷帥 | 申請（專利權）人： | 深圳市危險廢物處理站 |
| 主分類號： | C02F1/58 | 分類號： | C02F1/58;C02F1/28 |
| 代理公司： | 深圳市中知專利商標代理有限公司 | 代理人： | 宋湘紅 |
| 地址： | 518049廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 印制 電路板 堿性 蝕刻 廢液 去除 方法 | ||
【權利要求書】：
1.?一種印制電路板堿性蝕刻廢液中砷的去除方法，其特征在于包括如下步驟：
(1)按三氯化鐵的用量為1～5kg/m3印制電路板堿性蝕刻廢液，配制濃度為0.5～5mol/L的三氯化鐵溶液，備用；
(2)將上述配好的三氯化鐵溶液慢慢加入到對應量的印制電路板堿性蝕刻廢液中，攪拌反應30～120min，過濾。
2.?根據權利要求1所述的印制電路板堿性蝕刻廢液中砷的去除方法，其特征在于：所述第(1)步中0.5～5mol/L的三氯化鐵溶液是用無水三氯化鐵固體配制而成，或是把高濃度的三氯化鐵溶液稀釋而成。
3.?根據權利要求1或2所述的印制電路板堿性蝕刻廢液中砷的去除方法，其特征在于：所述第(2)步的反應是在反應釜內進行，在過濾完之后，用少量的清水清洗反應釜內壁殘留的固體。
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