[發明專利]曝光影像偏差的校正方法和成像裝置

有效

• 申請號: 200810067797.1
• 申請日: 2008-06-17
• 公開（公告）號: CN101609284A
• 公開（公告）日: 2009-12-23
• 發明（設計）人: 孫海翔;高云峰
• 申請（專利權）人: 深圳市大族激光科技股份有限公司
• 主分類號: G03G15/04
• 分類號: G03G15/04;G03G15/00;B41J2/435
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種曝光影像偏差的校正方法，其特征在于，包括：

根據曝光模塊在成像面上的實際曝光位置，生成能夠校正所述曝 光模塊在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息，具體是：根 據多個聯動的曝光模塊在成像面上的實際曝光位置，生成能夠校正曝 光模塊在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息，所述曝光控 制信息與各曝光模塊一一對應；

按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模塊在所述成像面上進行 曝光；

按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模塊在所述成像面上進行 曝光具體是：按照所述曝光控制信息，控制相應的曝光模塊在所述成 像面上進行曝光；

所述生成能夠校正曝光模塊在所述成像面上的曝光位置偏差的 曝光控制信息包括：生成能夠校正曝光模塊在所述成像面的第一成像 方向或第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息；

所述根據多個聯動的曝光模塊在成像面上的實際曝光位置，生成 能夠校正曝光模塊在所述成像面的第一成像方向上的曝光位置偏差 的曝光控制信息具體包括：

根據多個聯動的曝光模塊的實際曝光位置，獲得各曝光模塊與所 述成像面的第一成像方向上的相鄰曝光模塊間的實際距離，并在所獲 得的實際距離中確定最大距離；

根據所述實際距離，將待成像圖像在所述第一成像方向上進行分 像，使各曝光模塊對應的分像子圖像在所述第一成像方向上的尺寸， 與該曝光模塊和所述第一成像方向上的相鄰曝光模塊間的實際距離 相一致；

對各曝光模塊對應的分像子圖像，分別判斷其在所述第一成像方 向上的尺寸是否達到所述最大距離，若是，則以該分像子圖像作為相 應曝光模塊的曝光控制信息；若否，則相對于所述第一成像方向，在 該分像子圖像的后面填補空白區域，使填補后的分像子圖像在所述第 一成像方向上的尺寸與所述最大距離相一致，以該填補后的分像子圖 像作為相應曝光模塊的曝光控制信息。

2.一種曝光影像偏差的校正方法，其特征在于，包括：

根據曝光模塊在成像面上的實際曝光位置，生成能夠校正所述曝 光模塊在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息，具體是：根 據多個聯動的曝光模塊在成像面上的實際曝光位置，生成能夠校正曝 光模塊在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息，所述曝光控 制信息與各曝光模塊一一對應；

按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模塊在所述成像面上進行 曝光；

按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模塊在所述成像面上進行 曝光具體是：按照所述曝光控制信息，控制相應的曝光模塊在所述成 像面上進行曝光；

所述生成能夠校正曝光模塊在所述成像面上的曝光位置偏差的 曝光控制信息包括：生成能夠校正曝光模塊在所述成像面的第一成像 方向或第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息；

所述根據多個聯動的曝光模塊在成像面上的實際曝光位置，生成 能夠校正曝光模塊在所述成像面的第二成像方向上的曝光位置偏差 的曝光控制信息具體包括：

根據多個聯動的曝光模塊的實際曝光位置，獲得各曝光模塊在所 述成像面的第二成像方向上，相對于在第二成像方向上實際曝光位置 偏移最遠的曝光模塊的實際距離，并在所獲得的實際距離中確定最大 距離；

相對于所述第二成像方向，在曝光模塊各自在第一成像方向上的 分像子圖像的前面填補第一空白區域，所填補的第一空白區域在所述 第二成像方向上的尺寸與該曝光模塊在所述第二成像方向上，相對于 所述偏移最遠的曝光模塊的實際距離相一致；

相對于所述第二成像方向，在曝光模塊各自經填補第一空白區域 后的分像子圖像的后面填補第二空白區域，使填補后的分像子圖像在 所述第二成像方向上的尺寸，和未經填補第一空白區域前分像子圖像 在第二成像方向上的尺寸與所述最大距離之和相一致，以該填補第二 空白區域后的分像子圖像作為相應曝光模塊的曝光控制信息。