[發明專利]一種電阻式觸摸屏隔離點的制作方法有效
| 申請號: | 200810066908.7 | 申請日: | 2008-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN101566902A | 公開(公告)日: | 2009-10-28 |
| 發明(設計)人: | 劉濤 | 申請(專利權)人: | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/045 | 分類號: | G06F3/045 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518118廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電阻 觸摸屏 隔離 制作方法 | ||
1.一種電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于包括以下步驟:
S1.玻璃基板清洗;
S2.在玻璃基板上形成透明絕緣層;
S3.將經過步驟S2后的玻璃基板通過光罩對透明絕緣層進行曝光,所述光罩上排布有多個孔,所述孔經設置用于在曝光時通過光并使光照射在透明絕緣層上;所述光罩上孔的直徑為40微米,間距為2毫米,呈棱形排布;所述曝光時的曝光量為100mj/cm2,光罩離玻璃基板表面的間隙為200-250微米;
S4.對曝光后的玻璃基板用顯影液進行顯影處理,在玻璃基板上形成隔離點點陣。
2.如權利要求1所述的電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于:在所述步驟S1中,玻璃基板清洗的方法包括如下步驟:
S11.紫外線預處理:去除玻璃基板表面的有機物物質;
S12.堿液清洗:去除玻璃基板表面的大顆粒物質;
S13.超聲波清洗:去除玻璃基板表面的小顆粒物質和堿離子;
S14.高壓純水噴淋:進一步去除玻璃基板表面的顆粒物質和殘留離子;
S15.風刀處理:初步去除玻璃基板表面的水和溶劑;
S16.紅外處理:進一步去除玻璃基板表面的水和溶劑。
3.如權利要求2所述的電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于:在所述步驟S12中,所述堿液清洗的堿洗劑為0.5~1.0%(重量份)的堿金屬氫氧化物溶液或者堿金屬碳酸鹽溶液。
4.如權利要求3所述的電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于:所述堿金屬氫氧化物溶液為氫氧化鉀溶液,所述堿金屬碳酸鹽溶液為碳酸鈉溶液。
5.如權利要求2所述的電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于:所述高壓純水噴淋的壓力為6MPa-8MPa。
6.如權利要求2所述的電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于:所述紅外處理的溫度為135度-150度。
7.如權利要求1所述的電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于:在所述步驟S2中,通過涂布的方式在玻璃基板上形成透明絕緣層,包括以下步驟:
S21.刮刀涂布:在玻璃表面初步形成均勻透明樹脂膜;
S22.旋轉涂布:保持均勻的轉速,在玻璃基板表面形成一膜厚更加均勻的透明樹脂膜即透明絕緣層;
S23.將涂布好透明絕緣層的玻璃基板,進行干燥和預烘烤,除去玻璃基板表面的溶劑。
8.如權利要求7所述的電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于:在所步驟S22中,所述的透明絕緣層膜厚為8-10微米,旋轉涂布的轉速為400rpm。
9.如權利要求1所述的電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于:在所述步驟S2中,通過涂布的方式在玻璃基板上形成透明絕緣層,包括以下步驟:
S21’.刮刀涂布:在玻璃表面初步形成均勻透明樹脂膜;
S22’.旋轉涂布:采用先加速后勻速最后減速的方式,在玻璃基板表面形成一膜厚更加均勻的透明絕緣層,所述加速、勻速、減速的時間比為3秒∶7秒∶3秒;
S23’.將涂布好透明絕緣層的玻璃基板,進行干燥和預烘烤,除去玻璃基板表面的溶劑。
10.如權利要求1、7、8、9中任一項所述的電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于:所述透明絕緣層為透明樹脂膜,由丙烯酸樹脂、分散劑和感光化合物組成。
11.如權利要求1所述的電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于:在所步驟S4中,所述顯影液的溫度為28度-30度,噴淋時間為40秒;所述顯影液采用碳酸鈉和氫氧化鉀的混合物與水配制而成的溶液。
12.如權利要求1所述的電阻式觸摸屏隔離點的制作方法,其特征在于:在所述步驟S4之后,還包括以下步驟S5:將顯影后玻璃基板表面進行烘烤固化,所述烘烤的溫度為200度-250度,烘烤的時間為40分鐘。
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