[發明專利]一種甲烷直接氧化陽極的制備方法無效
| 申請號: | 200810064631.4 | 申請日: | 2008-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN101308930A | 公開(公告)日: | 2008-11-19 |
| 發明(設計)人: | 孫克寧;喬金碩;張乃慶;邵延斌;石偉 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | H01M4/88 | 分類號: | H01M4/88 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 | 代理人: | 金永煥 |
| 地址: | 150001黑龍江*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 甲烷 直接 氧化 陽極 制備 方法 | ||
1、一種甲烷直接氧化陽極的制備方法,其特征在于甲烷直接氧化陽極的制備方法按以下步驟實現:一、按質量比60~65∶100將淀粉和YSZ粉體混合,然后加入有機溶劑和分散劑混合球磨22~26h,再加入粘結劑和塑性劑混合球磨22~26h,得到多孔YSZ的流延漿料;二、將YSZ粉體、有機溶劑和分散劑混合球磨22~26h,然后加入粘結劑和塑性劑混合球磨22~26h,得到致密YSZ的流延漿料;三、將致密YSZ的流延漿料進行抽真空脫泡,然后在流延機膜帶上流一層致密YSZ的流延漿料,干燥,形成致密YSZ素坯膜;四、將多孔YSZ的流延漿料進行抽真空脫泡,然后在致密YSZ素坯膜上流一層多孔YSZ的流延漿料,干燥,形成多孔YSZ復合致密YSZ素坯;五、將多孔YSZ復合致密YSZ素坯放入1400~1500℃的條件下燒結4~6h,得多孔YSZ復合致密YSZ基體;六、按Ni與CeO29~5∶1~2的質量比配制硝酸鎳和硝酸鈰的混合溶液,在真空條件下將多孔YSZ復合致密YSZ基體浸漬在混合溶液中2~3h后取出,然后在70~90℃的條件下干燥10~14h,再放入700~900℃的條件下焙燒0.4~0.6h,即得甲烷直接氧化陽極;其中步驟一和二中使用了相同的有機溶劑、相同的分散劑、相同的粘結劑和相同的塑性劑,且步驟一和二中YSZ粉體與有機溶劑的質量比為1∶1.1~1.7,YSZ粉體與分散劑的質量比為1∶0.025~0.035,YSZ粉體與粘結劑的質量比為1∶0.08~0.12,YSZ粉體與塑性劑的質量比為1∶0.15~0.21。
2、根據權利要求1所述的甲烷直接氧化陽極的制備方法,其特征在于步驟一中按質量比62∶100將淀粉和YSZ粉體混合,然后加入有機溶劑和分散劑混合球磨24h,再加入粘結劑和塑性劑混合球磨24h。
3、根據權利要求1所述的甲烷直接氧化陽極的制備方法,其特征在于步驟一中有機溶劑為乙醇、甲乙酮、三氯乙烯中的兩種的共沸混合物。
4、根據權利要求1所述的甲烷直接氧化陽極的制備方法,其特征在于步驟一中分散劑為磷酸酯類分散劑。
5、根據權利要求1所述的甲烷直接氧化陽極的制備方法,其特征在于步驟一中粘結劑為聚乙烯醇縮丁醛、聚丙烯酸甲酯或乙基纖維素。
6、根據權利要求1所述的甲烷直接氧化陽極的制備方法,其特征在于步驟一中塑性劑為聚乙二醇和鄰苯二甲酸二乙酯。
7、根據權利要求1所述的甲烷直接氧化陽極的制備方法,其特征在于步驟二中將YSZ粉體、有機溶劑和分散劑混合球磨24h,然后加入粘結劑和塑性劑混合球磨24h。
8、根據權利要求1所述的甲烷直接氧化陽極的制備方法,其特征在于重復操作步驟四。
9、根據權利要求1所述的甲烷直接氧化陽極的制備方法,其特征在于步驟五中將多孔YSZ復合致密YSZ素坯放入1450℃的條件下燒結5h。
10、根據權利要求1所述的甲烷直接氧化陽極的制備方法,其特征在于步驟六中按Ni與CeO25∶2的質量比配制硝酸鎳和硝酸鈰的混合溶液,在真空條件下將多孔YSZ復合致密YSZ基體浸漬在混合溶液中2.5h后取出,然后在80℃的條件下干燥12h,再放入800℃的條件下焙燒0.5h。
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