[發明專利]一種分散黑染料組合物

有效

• 申請號: 200810063116.4
• 申請日: 2008-07-11
• 公開（公告）號: CN101323712A
• 公開（公告）日: 2008-12-17
• 發明（設計）人: 阮偉祥;歐其;阮華森;呂建君;汪仁良
• 申請（專利權）人: 浙江龍盛染料化工有限公司;浙江龍盛集團股份有限公司;浙江龍盛化工研究有限公司
• 主分類號: C09B67/38
• 分類號: C09B67/38;D06P1/18
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司
• 代理人: 王兵;黃美娟

1.一種分散黑染料組合物，包括一種或多種結構如式(I)所示的組分A、一種或多種結構如式(II)所示的組分B、一種或多種結構如式(III)所示的組分C和一種或多種結構如式(IV)的組分D，基于所述的組分A、組分B、組分C和組分D，所述組分A重量百分含量為50～90％，所述組分B重量百分含量為4～30％，所述組分C重量百分含量1～15％，所述組分D的重量百分含量為5～35％；

式(I)中：

X₁為氰基或鹵素；R₁、R₂各自獨立為C₁～C₄的烷基、-CH₂COOR₁₂、-C₂H₄COOR₁₃或C₂H₄OCOR₁₄，其中，R₁₂、R₁₃、R₁₄各自獨立為C₁～C₄的烷基；式中，R₃、R₄各自獨立為C₁～C₄的烷基；

式(II)中：

X₂為氰基或鹵素；R₅、R₆、R₇各自獨立為C₁～C₄的烷基；n為1或2；

式(III)中：

R₈為-OH、C₁～C₄的烷基或C₁～C₄的烷氧基；R₉、R₁₀各自獨立為C₁～C₄的烷基、氰乙基或-R₁₅COOR₁₆，其中，R₁₅、R₁₆各自獨立為C₁～C₄的烷基；

式(IV)中：

X₃為氫、鹵素、硝基或-COOC₂H₄OC₂H₄OCH₃；X₄為氫、鹵素或-OSO₂-Ph；X₅為氫或硝基；R₁₁為C₁～C₄的烷基。

2.如權利要求1所述的分散黑染料組合物，其特征在于：基于所述組分A、組分B、組分C和組分D，所述組分A的重量百分含量為55～90％，所述組分B的重量百分含量為4～25％，所述組分C的重量百分含量為1～10％，所述組分D的重量百分含量為5～30％。

3.如權利要求1所述的分散黑染料組合物，其特征在于：所述分散黑染料組合物由組分A、組分B、組分C、組分D和助劑組成，基于所述組分A、組分B、組分C和組分D，所述組分A的重量百分含量為55～90％，所述組分B的重量百分含量為4～25％，所述組分C的重量百分含量為1～10％，所述組分D的重量百分含量為5～30％；助劑質量為組分A、組分B、組分C、組分D質量之和的0.8～5倍。

4.如權利要求1～3之一所述的分散黑染料組合物，其特征在于所述組分A為下列之一或其中一種以上的混合物：

5.如權利要求1～3之一所述的分散黑染料組合物，其特征在于所述組分B為下列之一或其中一種以上的混合物：

6.如權利要求1～3之一所述的分散黑染料組合物，其特征在于所述組分C為下列之一或其中一種以上的混合物：

7.如權利要求1～3之一所述的分散黑染料組合物，其特征在于所述組分D為下列之一或其中一種以上的混合物：