[發明專利]玻璃微－納流控一體化芯片的制作方法

無效

• 申請號: 200810062585.4
• 申請日: 2008-06-17
• 公開（公告）號: CN101294972A
• 公開（公告）日: 2008-10-29
• 發明（設計）人: 何巧紅;陳雙
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: G01N35/00
• 分類號: G01N35/00;G01N37/00
• 代理公司: 杭州中成專利事務所有限公司
• 代理人: 盛輝地

1.一種玻璃微-納流控一體化芯片的制作方法，其特征是分別設計、制作微米通道和納米通道圖案的掩膜；采用二次標準紫外光刻和化學濕法刻蝕技術，在同一塊玻璃基片上制作微米和納米通道網絡結構；所制備的芯片由上下兩片玻璃組成，一片是帶有微米和納米通道的玻璃基片，另一片是相同材料的玻璃蓋片，基片和蓋片在室溫下封合形成微-納米通道一體化的玻璃芯片：其制作步驟為：

(1)在玻璃基片上加工微米通道：第一次利用標準紫外光刻和化學濕法刻蝕技術，在玻璃基片上經過曝光、顯影、定影、老化光膠、去鉻、刻蝕幾個步驟，加工形成微米通道，所述第一次光刻，是將微米通道的圖案轉移至涂有鉻層和光膠層的玻璃基片上，第一次顯影時顯影液為0.5％w/w的NaOH水溶液，第一次化學刻蝕液的組成為1mol·L^-1HF、0.5mol·L^-1NH₄F和0.5mol·L^-1HNO₃的混合溶液；

(2)在形成微米通道的玻璃基片上加工形成納米通道：用丙酮去除帶有微米通道的基片上的光膠，清洗干凈，吹干，在玻璃基片上重新甩上光膠并固化光膠；第二次利用標準紫外光刻和化學濕法刻蝕技術，在玻璃基片上經過曝光、顯影、定影、老化光膠、去鉻、刻蝕幾個步驟，加工形成納米通道，所述第二次光刻，是將掩膜納米通道的圖案轉移至涂有鉻層和新光膠層的玻璃基片上，第二次顯影時顯影液為0.7％w/w的NaOH水溶液，第二次化學刻蝕液的組成為1.5×10^-2mol·L^-1HF、7.5×10^-3mol·L-1NH₄F和7.5×10^-3mol·L^-1HNO₃的混合溶液；

(3)基片和蓋片的封合：分別用丙酮和去鉻液除去上述步驟(2)基片上的光膠和鉻，獲得帶有微米和納米通道的玻璃基片；用鉆頭在基片相應的位置上打出試樣引入小孔；清洗基片和蓋片，在去離子水的水流下兩片結合，室溫下靜置1-3天，獲得玻璃微-納流控一體化芯片。

2.根據權利1中所述的玻璃微-納流控一體化芯片的制作方法，其特征是采用Cowl?draw軟件分別設計微米和納米通道圖案，采用分辨率在5080dpi以上的激光排照機，打印出帶有圖案的聚對苯二甲酸乙二醇酯膠片作為光刻掩膜。

3.根據權利1或2所述的玻璃微-納流控一體化芯片的制作方法，其特征是所述的定影需要定影液，所述的定影液為去離子水，老化光膠，將基片放入烘箱中，在110℃放置15分鐘。

4.根據權利1所述的玻璃微-納流控一體化芯片的制作方法，其特征是所述的固化光膠，將基片放入烘箱中，90℃下放置30分鐘，使光膠固化。

5.根據權利1所述的玻璃微-納流控一體化芯片的制作方法，其特征是所述的去鉻：去鉻液由25g硝酸鈰銨、6.45mL濃度為70％的高氯酸和110mLH₂O混合組成。