[發(fā)明專利]連續(xù)鎖模近場光腔衰蕩光譜分析裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810061918.1 | 申請日: | 2008-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN101294894A | 公開(公告)日: | 2008-10-29 |
| 發(fā)明(設計)人: | 高秀敏;王健 | 申請(專利權)人: | 杭州電子科技大學 |
| 主分類號: | G01N21/25 | 分類號: | G01N21/25;G01J3/28 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 | 代理人: | 杜軍 |
| 地址: | 310018浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 連續(xù) 近場 光腔衰蕩 光譜分析 裝置 | ||
1.連續(xù)鎖模近場光腔衰蕩光譜分析裝置,包括相干光源、入射偏振分光鏡、光束調制與控制器、頻率調控器、分析控制單元、光學行波高精細度腔、探測偏振分光鏡、鎖模探測器,信號探測器,其特征在于:光束整形隔離部件、入射偏振分光鏡和鎖模光束反射鏡依次置在相干光源的出射光束光路上,測量光束反射鏡設置在入射偏振分光鏡的出射s偏振態(tài)光束光路上;
在測量光束反射鏡的反射光路上依次設置有光學行波高精細度腔和探測偏振分光鏡;合成偏振分光鏡設置在測量光束反射鏡和光學行波高精細度腔之間,位于測量光束反射鏡的反射光路與鎖模光束反射鏡的反射光路的交點處,測量光束反射鏡的反射光路與鎖模光束反射鏡的反射光路以合成偏振分光鏡的偏振分光面對稱;
光束調制與控制器設置在測量光路上,頻率調控器設置在鎖模光路上;所述的測量光路為光通過入射偏振分光鏡、測量光束反射鏡和合成偏振分光鏡的路徑;所述的鎖模光路為光通過入射偏振分光鏡、鎖模光束反射鏡和合成偏振分光鏡的路徑;
鎖模探測器設置在探測偏振分光鏡的透射光光路上,信號探測器設置在探測偏振分光鏡的反射光光路上;
所述的光學行波高精細度腔為等腰三角形棱鏡或等腰梯形棱鏡,兩個腰為高反射率入射面和高反射率出射面、底面為內全反射面;移動部件與光學行波高精細度腔配合連接;
相干光源、光束調制與控制器、頻率調控器、移動部件、鎖模探測器和信號探測器均與分析控制單元電連接。
2.如權利要求1所述的連續(xù)鎖模近場光腔衰蕩光譜分析裝置,其特征在于:所述的相干光源為半導體激光器、固體激光器、氣體激光器、液體激光器的一種。
3.如權利要求1所述的連續(xù)鎖模近場光腔衰蕩光譜分析裝置,其特征在于:所述的光束調制與控制器為液晶型空間光調制器。
4.如權利要求1所述的連續(xù)鎖模近場光腔衰蕩光譜分析裝置,其特征在于:所述的頻率調控器為聲光調制器、電光調制器、變頻晶體調制器的一種。
5.如權利要求1所述的連續(xù)鎖模近場光腔衰蕩光譜分析裝置,其特征在于:所述的鎖模探測器和信號探測器為雪崩管。
6.如權利要求1所述的連續(xù)鎖模近場光腔衰蕩光譜分析裝置,其特征在于:所述的移動部件為步進電機、壓電陶瓷位移器、納米位移元件中的一種。
7.如權利要求1所述的連續(xù)鎖模近場光腔衰蕩光譜分析裝置,其特征在于:所述的光束調制與控制器設置在入射偏振分光鏡和測量光束反射鏡之間,或設置在測量光束反射鏡和合成偏振分光鏡之間。
8.如權利要求1所述的連續(xù)鎖模近場光腔衰蕩光譜分析裝置,其特征在于:所述的頻率調控器設置在入射偏振分光鏡和鎖模光束反射鏡之間,或設置在鎖模光束反射鏡和合成偏振分光鏡之間。
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