[發明專利]動態目標輻射特性模擬系統

無效

• 申請號: 200810059533.1
• 申請日: 2008-01-31
• 公開（公告）號: CN101246651A
• 公開（公告）日: 2008-08-20
• 發明（設計）人: 李捷
• 申請（專利權）人: 杭州普維光電技術有限公司
• 主分類號: G09B25/00
• 分類號: G09B25/00;F41H11/02;F41G3/26;F42B15/00;G03B15/16;G01B11/00
• 代理公司: 杭州豐禾專利事務所有限公司
• 代理人: 王鵬舉

1.動態目標輻射特性模擬系統，其特征在于包括輻射光源(5)、輻射強度調節與控制模塊(8)、成像系統模塊(4)、運動及控制模塊(3)和主控模塊(1)，其中：輻射光源(5)采用激光輻射源；輻射光源(5)和輻射強度調節與控制模塊(8)用于模擬動態目標特征；成像系統模塊(4)用于獲取動態目標所跟蹤的目標的信息，控制和調整運動及控制模塊(3)；運動及控制模塊(3)的工作平臺上放置輻射光源(5)、輻射強度調節與控制模塊(8)和成像系統模塊(4)，運動及控制模塊(3)根據成像系統模塊(4)的信息，通過主控模塊(1)處理，對其工作平臺的運動姿態進行控制，跟蹤鎖定所跟蹤的目標；主控模塊(1)分別連接輻射光源(5)、輻射強度調節與控制模塊(8)、成像系統模塊(4)、運動及控制模塊(3)，并根據信息對它們進行控制。

2.根據權利要求1所述的動態目標輻射特性模擬系統，其特征在于：輻射光源(5)采用中波紅外激光器，波長選用3μm～5μm。

3.根據權利要求1所述的動態目標輻射特性模擬系統，其特征在于：輻射光源(5)采用長波紅外激光器，波長選用10μm～11μm。

4.根據權利要求1所述的動態目標輻射特性模擬系統，其特征在于：輻射光源(5)采用紫外激光器，波長選用200nm～380nm。

5.根據權利要求1～4任意一項權利要求所述的動態目標輻射特性模擬系統，其特征在于：成像系統模塊(4)獲取所跟蹤的目標的圖像，并對圖像進行處理，獲取所跟蹤的目標的運動參數，再通過主控模塊(1)處理，獲得工作平臺的運動參數，對工作平臺的運動姿態進行控制，跟蹤鎖定所跟蹤的目標。

6.根據權利要求5所述的動態目標輻射特性模擬系統，其特征在于：成像系統模塊(4)采用可見光CCD或者中波紅外或者長波紅外的成像系統。

7.根據權利要求1～4任意一項權利要求所述的動態目標輻射特性模擬系統，其特征在于：輻射強度調節與控制模塊(8)通過輔助設備獲取所要模擬的目標距離參數，再通過主控模塊(1)處理調整輻射強度，用于模擬動態目標特征。

8.根據權利要求7所述的動態目標輻射特性模擬系統，其特征在于：輻射強度的調整采用調整激光的輸出功率和調整激光光束的擴散角中的一種或2種的結合。

9.根據權利要求8所述的動態目標輻射特性模擬系統，其特征在于：輸出功率通過調整重頻或占空比，實現激光輸出的平均功率的快速調整；通過對激光器的驅動電源的輸出電流或電壓或占空比進行調制的方法，達到光強調制。

10.根據權利要求8所述的動態目標輻射特性模擬系統，其特征在于：調整激光光束的擴散角通過采用激光擴散角調整系統完成，激光擴散角調整系統的運動控制通過控制電機(7)進行，控制電機(7)與主控模塊(1)相連接。