[發明專利]一種用于手機保護屏類的塑料基體上鍍錫工藝無效
| 申請號: | 200810059530.8 | 申請日: | 2008-01-31 |
| 公開(公告)號: | CN101343730A | 公開(公告)日: | 2009-01-14 |
| 發明(設計)人: | 趙斌通;張雙文;崔龍范;宋光耀 | 申請(專利權)人: | 杭州博納特光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/14;C23C14/54 |
| 代理公司: | 杭州賽科專利代理事務所 | 代理人: | 陳輝 |
| 地址: | 310030浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 手機 保護 塑料 基體 鍍錫 工藝 | ||
1、一種用于手機保護屏類的塑料基體上鍍錫工藝,其特征在于:工藝可分為如下幾個步驟:
抽真空---→上架---→預靶---→加熱---→鍍膜---→下架---→出片;
1.1抽真空:指對鍍膜設備進行抽氣,使之達到預期的3.0E-3Pa真空度;
上架:指將客戶需求尺寸的板材裝到基片架上;
1.2預靶:指對新裝上的靶材進行表層剝離,清潔,使之達到與靶材內部一樣的狀態,具體可以通過預靶后期的電壓穩定性來判斷;
1.3加熱:指基體或待鍍材料通過進料室、緩沖室時對其進行加熱,使其表面吸附的雜質氣體釋放干凈,達到鍍膜前所需的表面狀態;
1.4鍍膜:指應用在磁場作用下控制靶材的電流電壓對基體進行鍍膜,需要有真空度或鍍膜時壓力、氣體等因素的保證;
下架:指將板材從基片架上卸下來;
1.5出片:指完成鍍膜后從出料室出來。
2、根據權利要求1所述的一種用于手機保護屏類的塑料基體上鍍錫工藝,其特征在于:靶材為純度≥99.6%的錫靶。
3、根據權利要求1所述的一種用于手機保護屏類的塑料基體上鍍錫工藝,其特征在于:電流:1.8A(40kHz中頻電源);時長:30-60min。
4、根據權利要求1所述的一種用于手機保護屏類的塑料基體上鍍錫工藝,其特征在于:加熱溫度為100±5℃。
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