[發明專利]基于聚合物相變溫度響應性的浸潤性聚合物開關薄膜的制備方法

無效

• 申請號: 200810056957.2
• 申請日: 2008-01-28
• 公開（公告）號: CN101225180A
• 公開（公告）日: 2008-07-23
• 發明（設計）人: 胡書新;曹新宇;李超;江雷
• 申請（專利權）人: 中國科學院化學研究所
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08L67/00;C08L71/00
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 李柏

1.一種基于聚合物相變溫度響應性的浸潤性聚合物開關薄膜的制備方法，其特征是：該方法包括以下步驟：

1)選取分子內同時含有親水基團與疏水基團，具有相變點在20℃～100℃的聚合物，溶于易揮發的對聚合物有良好溶解能力的純有機溶劑中，配制成聚合物的稀溶液；

2)將要修飾的固體基底表面進行清潔化，得到表面平滑的固體基底；或將要修飾的固體基底表面進行清潔化和進行微米或納米尺度的粗糙化，得到表面粗糙的固體基底；

3)將步驟1)得到的聚合物的稀溶液滴于需要修飾的步驟2)得到的平滑的固體基底上，或表面粗糙的固體基底上；在干燥器中保存，使聚合物的稀溶液在固體基底的表面充分鋪展；再放入真空干燥器中抽真空，以除去固體基底表面多余的有機溶劑，并于80℃～120℃的溫度下對真空干燥箱抽真空，以完全除去殘留在固體基底表面的有機溶劑。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征是：在平滑的同體基底上得到的聚合物開關薄膜表面在低于聚合物相轉變溫度時，聚合物材料表面為疏水狀態，在粗糙的固體基底上得到的聚合物開關薄膜表面在低于聚合物相轉變溫度時，聚合物材料表面為超疏水狀態；在平滑的固體基底上得到的聚合物開關薄膜表面在高于聚合物相轉變溫度時，聚合物材料表面為親水狀態，在粗糙的固體基底上得到的聚合物開關薄膜表面在高于聚合物相轉變溫度時，聚合物材料表面為超親水狀態。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征是：所述的固體基底表面進行微米或納米尺度的粗糙化方法包括物理方法或化學方法。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征是：所述的物理方法是激光刻蝕、等離子體處理或電子束刻蝕；所述的化學方法是強氧化劑或強還原劑的腐蝕。

5.根據權利要求1、2或3所述的方法，其特征是：所述的固體基底足玻璃、硅片或陶瓷無機材料，或者是滌綸、腈綸或棉線有機材料。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征是：步驟1)所述的聚合物稀溶液的濃度是0.1～50mg/mL。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征是所述的聚合物稀溶液的濃度是0.1～10mg/mL。

8.根據權利要求1、2、6或7所述的方法，其特征是：所述的聚合物是聚己內酯、聚丙交酯、聚己二酸癸二酯、聚癸二酸乙二酯、聚二氧六環、聚四氫呋喃、聚六次甲基氧醚或聚氧乙烯；或者是無規共聚酯的聚合物；或者是嵌段共聚物。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征是：所述的無規共聚酯的聚合物是對苯二甲酸和己二酸與乙二醇的共聚物或對苯二甲酸和癸二酸與乙二醇的共聚物；所述的嵌段共聚物是聚乳酸與聚己內酯的嵌段共聚物或聚癸二酸乙二酯與聚乳酸的嵌段共聚物。

10.根據權利要求1所述的方法，其特征是：所述的有機溶劑選自苯、甲苯、己烷、三氯甲烷、二氯甲烷、四氫呋喃、二甲基甲酰胺、1，4-二六氧環，乙酸乙酯、乙醚、吡啶、乙醇、甲醇、丙酮中的一種或大于一種的混合物。