[發明專利]一種用染料和無機鹽直接制備納米顏料的方法無效
| 申請號： | 200810054452.2 | 申請日： | 2008-01-18 |
| 公開（公告）號： | CN101235218A | 公開（公告）日： | 2008-08-06 |
| 發明（設計）人： | 張星辰;呂立強;段書德;張云宵 | 申請（專利權）人： | 石家莊學院 |
| 主分類號： | C09B67/02 | 分類號： | C09B67/02 |
| 代理公司： | 石家莊新世紀專利商標事務所有限公司 | 代理人： | 張貳群 |
| 地址： | 050035河北省石家*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 染料 無機鹽 直接 制備 納米 顏料 方法 | ||
1、一種用染料和無機鹽直接制備納米顏料的方法，其特征在于包括以下工序：
a、制取或準備含有金屬陽離子的無機鹽的溶液；
b、在上述含有金屬陽離子的無機鹽的溶液中，利用含有金屬陽離子的無機鹽作為晶核形成劑，在攪拌或者剪切分散條件作用下，加入含有磺酸基陰離子基團的染料；
c、加入pH值調節劑，調節溶液的pH值到反應終點時為4.0~13，控制無機物晶核長大的條件，得到或進一步加工制得納米顏料。
2、根據權利要求1所述的一種用染料和無機鹽直接制備納米顏料的方法，其特征在于所述的溶液中的含有金屬陽離子的無機鹽為堿土金屬或過渡金屬無機鹽。
3、根據權利要求2所述的一種用染料和無機鹽直接制備納米顏料的方法，其特征在于所述的堿土金屬或過渡金屬無機鹽為：(AlCl3、AlCl3·6H2O、Al2(SO4)3、·9H2O，明礬，MgCl2，以及鈹Be、鈣Ca、鍶Sr、鋇Ba的，硅Si、鈧Sc、鈦Ti、釩V、鉻Cr、錳Mn、鐵Fe、鈷Co、鎳Ni、銅Cu、鋅Zn、硒Se、鎘Cd的無機鹽。
4、根據權利要求1所述的一種用染料和無機鹽直接制備納米顏料的方法，其特征在于所述的PH值調節劑為氨氣、氨水、碳酸鈉、碳酸氫鈉、尿素、氫氧化鈉。
5、根據權利要求1所述的一種用染料和無機鹽直接制備納米顏料的方法，其特征在于所述的攪拌或者剪切分散條件為：分散設備為800-30000轉/分高速分散機、高剪切分乳化散機或高速乳化機，或用超聲波微粒分散機不以轉速計算之設備。
6、根據權利要求1、2、3、4或5所述的一種用染料和無機鹽直接制備納米顏料的方法，其特征在于在加入含有磺酸基陰離子基團的染料之前，加入pH值調節劑，調節溶液的pH值，再加入含有磺酸基陰離子基團的染料。
7、根據權利要求6所述的一種用染料和無機鹽直接制備納米顏料的方法，其特征在于所述的含有金屬陽離子的無機鹽為Al鹽時，在加入含有磺酸基陰離子基團的染料之前，加入pH值調節劑，調節溶液的pH值至2.0~5.5。
8、根據權利要求7所述的一種用染料和無機鹽直接制備納米顏料的方法，其特征在于所述的含有金屬陽離子的無機鹽為Al鹽時，在加入含有磺酸基陰離子基團的染料之前，加入pH值調節劑，調節溶液的pH值至3.0~4.5。
9、根據權利要求6所述的一種用染料和無機鹽直接制備納米顏料的方法，其特征在于所述的含有金屬陽離子的無機鹽為Mg鹽時，在加入含有磺酸基陰離子基團的染料之前，加入pH值調節劑，調節溶液的pH值至5.0~9.0。
10、根據權利要求9所述的一種用染料和無機鹽直接制備納米顏料的方法，其特征在于所述的含有金屬陽離子的無機鹽為Mg鹽時，在加入含有磺酸基陰離子基團的染料之前，加入pH值調節劑，調節溶液的pH值至6.0~8.0。
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