[發明專利]凹球面光學器件旋涂光刻膠的方法無效
| 申請號： | 200810050936.X | 申請日： | 2008-07-08 |
| 公開（公告）號： | CN101359179A | 公開（公告）日： | 2009-02-04 |
| 發明（設計）人： | 馮曉國;高勁松;趙晶麗;梁鳳超 | 申請（專利權）人： | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 長春菁華專利商標代理事務所 | 代理人： | 趙炳仁 |
| 地址： | 130033吉*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 球面 光學 器件 光刻 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種凹球面光學器件旋涂光刻膠的方法，其特征在于，是在凹球面光學器件開口向上靜置狀態下將光刻膠涂料注入到凹球面的中心處后，立即將凹球面光學器件轉為開口向下狀態進行水平方向旋轉，待光刻膠涂料固化后停止旋轉，即在光學器件的凹球面上獲得均勻的光刻膠涂層。
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