[發(fā)明專利]一種用光催化納米活性水制備納米結(jié)構(gòu)的方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810050599.4 | 申請(qǐng)日: | 2008-04-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101357748A | 公開(公告)日: | 2009-02-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張金龍;劉麗紅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 張金龍 |
| 主分類號(hào): | B82B3/00 | 分類號(hào): | B82B3/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 130011吉林省長(zhǎng)春市綠園區(qū)一*** | 國(guó)省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用光 催化 納米 活性 制備 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
涉及納米結(jié)構(gòu)的制備。
技術(shù)背景
目前,納米線、納米膜、納米器件的制備還比較困難,有的還在基礎(chǔ)研究階段,有的是在實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品階段,不能進(jìn)入工業(yè)化生產(chǎn)。例如:?jiǎn)尉а趸杓{米線的制備,用高溫化學(xué)蒸氣沉降法,高溫在1000℃以上;碳助生長(zhǎng)法,也需要很高的溫度;溶膠與凝膠法需要硅源和模板劑的作用,生長(zhǎng)氧化硅納米線,經(jīng)過焙燒或化學(xué)腐蝕去除模板劑,最終得到納米線,需要焙燒和模板劑,污染環(huán)境;激光消融法等都需要高溫;一種用乙二胺作為反應(yīng)溶液水熱氣相用硝酸鐵作為負(fù)載的氧化硅的合成方法,經(jīng)過離心、晾干、焙燒、水熱處理、去負(fù)載、清洗等一系列工藝和中溫焙燒等。例如:在國(guó)際上先進(jìn)的納米光電子器件制備系統(tǒng),德國(guó)Leybold電子束蒸發(fā)的薄膜制備系統(tǒng),多槍電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、納米材料生長(zhǎng)設(shè)備等,納米材料生長(zhǎng)范圍在200mm晶圓范圍內(nèi),提供薄膜沉積環(huán)境,涉及到電漿源的產(chǎn)生系統(tǒng),沉積室的進(jìn)氣/抽氣動(dòng)力學(xué)形成均勻流場(chǎng)分布,大面積的納米薄膜的銜接的問題都存在著缺陷。不可能制備出大面積均勻的納米薄膜。設(shè)備昂貴,耗電高。
這些納米結(jié)構(gòu)存在的問題是納米膜均勻度差,一次完成面積小存在結(jié)合點(diǎn)的不均勻,很難完成納米復(fù)合材料納米結(jié)構(gòu),特別是大面積的納米復(fù)合材的納米結(jié)構(gòu),由于在高溫、電子束條件等下,所形成的納米結(jié)構(gòu)粒徑粗大,其光學(xué)特性、耐高溫特性、機(jī)械特性、導(dǎo)磁特性、電學(xué)特性、物理特性、化學(xué)特性等得不到充分發(fā)揮,納米沉積層的結(jié)合強(qiáng)度差,影響其應(yīng)用特別是影響在軍事上的應(yīng)用效果。
總之,納米結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)方法有熱氣相沉積法、化學(xué)氣相沉積法、熔膠凝膠法等,生長(zhǎng)機(jī)理包括氣-液-固的生長(zhǎng)機(jī)理等。但是,這些制備方法往往需要高溫、高真空、模板、復(fù)雜的設(shè)備或者需要一些有毒的氣體保護(hù),成本高,難以工業(yè)化生產(chǎn)。
特別是在軍事隱身納米材料還停留在納米涂料的應(yīng)用。納米涂料的光學(xué)特性還沒有完全發(fā)揮納米材料的光學(xué)特性,涂層結(jié)合強(qiáng)度差等因?yàn)椋豢赡苤瞥扇{米材料敷著于載體上。
在機(jī)械零部件涂層加工或維修中,常常使用噴涂,刷鍍、電鍍等,由于添加的沉積層的金屬粒徑粗大,機(jī)械性能差,如:韌性差,抗疲勞性差,層間接合力差,結(jié)合層剝離,致使該工藝的應(yīng)用受到極大的限制。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是提供一種用光催化納米活性水生產(chǎn)納米結(jié)構(gòu)的方法,解決上述問題。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:將待加工的固體物質(zhì)和納米材料浸入光催化納米活性水中,在紫外線照射的條件下,納米材料沉積在固體物質(zhì)上生成納米結(jié)構(gòu)。
1、一種用光催化納米活性水的納米結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)方法,其特征是:將待加工的固體物質(zhì)和納米材料放入光催化納米活性水中,在紫外線照射的條件下,納米材料沉積在固體物質(zhì)上生成納米結(jié)構(gòu)。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的待加工的固體物質(zhì),其特征是:待加工的產(chǎn)品或工件。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米材料,其特征是:納米材料是納米粉體、膏體或液體。
4、一種用光催化納米活性水的納米結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)方法的用途,其特征是:用于固體物質(zhì)表面沉積層前的清洗。
5、一種用光催化納米活性水的納米結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)方法的用途,其特征是:納米結(jié)構(gòu)用于固體物質(zhì)的表面層。
6、一種用光催化納米活性水的納米結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)方法的用途,其特征是:納米結(jié)構(gòu)用于過渡層。
7、一種用光催化納米活性水的納米結(jié)構(gòu)的生產(chǎn)方法的用途,其特征是:納米結(jié)構(gòu)用于器件的電路的連接。
8、根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米結(jié)構(gòu),其特征是:納米結(jié)構(gòu)是納米一維結(jié)構(gòu)。
9、根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米結(jié)構(gòu),其特征是:納米結(jié)構(gòu)是納米二維結(jié)構(gòu)。
10、根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米結(jié)構(gòu),其特征是:納米結(jié)構(gòu)是納米三維結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的納米材料可以用納米金屬材料、納米非金屬材料、納米復(fù)合材料、納米半導(dǎo)體材料等各種納米材料。
如果將固體物質(zhì)換成產(chǎn)模板,納米原子將沉積在其表面上,去掉模板,從而,得到各種納米結(jié)構(gòu)。
紫外線可以用太陽光的紫外線,也可以用紫外線燈等光源。
納米結(jié)構(gòu)沉積加工時(shí),可以使用常溫或高一點(diǎn)溫度。
納米一維結(jié)構(gòu)包括納米線、納米棒、納米碳管。納米二維結(jié)構(gòu)包括納米膜、納米原子沉積膜或產(chǎn)品和工件的沉積膜,例如,納米玻璃、納米陶瓷、納米紡織纖維、納米塑料沉積膜、機(jī)械工件的沉積膜等。納米三維結(jié)構(gòu)包括納米機(jī)械部件、納米機(jī)械人部件等。
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