[發明專利]場發射陰極碳納米管發射陣列的制備方法無效
| 申請號： | 200810046758.3 | 申請日： | 2008-01-23 |
| 公開（公告）號： | CN101236872A | 公開（公告）日： | 2008-08-06 |
| 發明（設計）人： | 方國家;劉逆霜;楊曉霞;李春;李軍 | 申請（專利權）人： | 武漢大學 |
| 主分類號： | H01J9/02 | 分類號： | H01J9/02 |
| 代理公司： | 武漢天力專利事務所 | 代理人： | 程祥;馮衛平 |
| 地址： | 43007*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 發射 陰極 納米 陣列 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種場發射陰極碳納米管發射陣列的制備方法，包括以下步驟：在基底上沉積熔點為30-660℃的金屬層，再沉積催化劑層，然后在火焰中燒1-10分鐘，電場退火老化處理后得到場發射陰極碳納米管發射陣列。
2.如權利要求1所述的制備方法，其特征是：基底為金屬片、普通玻璃、透明導電玻璃、具有導電膜的襯底或硅片。
3.如權利要求1或2所述的制備方法，其特征是：所述催化劑為鐵、鈷和/或鎳，催化劑層鍍制厚度為5-100nm。
4.如權利要求1或2所述的制備方法，其特征是：所述金屬為鋁、鋅、錫、銦、鎵、鉍、鉛和/或銻，金屬層鍍制厚度為10-100nm。
5.如權利要求1或2所述的制備方法，其特征是：電場退火老化在真空度高于1×10-3帕的真空腔體內進行，所加電場為10伏/微米，時間為0.5-10小時。
6.如權利要求1或2所述的制備方法，其特征是：火焰所用燃料為有機燃料。
7.如權利要求6所述的制備方法，其特征是：所述有機燃料為甲烷、乙烷、甲醇、乙醇、丙酮、丙醇、異丙醇、乙炔、乙烯、沼氣、天然氣或液化石油氣。
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