[發明專利]高嶺石/1,2-丙二醇插層復合材料的制備方法

無效

• 申請號: 200810046044.2
• 申請日: 2008-09-12
• 公開（公告）號: CN101397140A
• 公開（公告）日: 2009-04-01
• 發明（設計）人: 林金輝;龍劍平;周世一;郭善
• 申請（專利權）人: 成都理工大學
• 主分類號: C01B33/44
• 分類號: C01B33/44
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.以二甲亞砜、1，2-丙二醇為插層劑，采用液相兩步插層法制備高嶺石/1，2-丙二醇插層復合材料的方法，有如下工藝步驟：

(1)配制含去離子水體積分數為3％～12％的二甲亞砜溶液；

(2)按比例為1g高嶺石與15mL按步驟(1)配制的二甲亞砜溶液混合，室溫攪拌均勻，懸濁液在80℃～100℃下充分反應6h～10h，抽濾，60℃烘干，制備粉末狀高嶺石/二甲亞砜插層復合物；

(3)按比例為20mL～30mL?1，2-丙二醇與1g按步驟(2)制備的高嶺石/二甲亞砜插層復合物混合，室溫攪拌均勻，懸濁液在120℃～160℃下充分反應7h～24h，抽濾，40℃～60℃烘干，通過二次插層制備高嶺石/1，2-丙二醇插層復合材料。

2.根據權利要求1所述的高嶺石/1，2-丙二醇插層復合材料的制備方法，其特征在于1，2-丙二醇取代了高嶺石/二甲亞砜插層復合物前驅體中的二甲亞砜分子，插入到高嶺石層間，高嶺石d₍₀₀₁₎層間距擴大60％～65％，插層率達到85％～99％。

3.根據權利要求1所述的高嶺石/1，2-丙二醇插層復合材料的制備方法，其特征在于該材料結構穩定，1，2-丙二醇分子在高嶺石層間以平行于高嶺石層片方式呈單層排列，其氧原子與高嶺石的內表面羥基形成氫鍵。