[發明專利]一種在旋涂法中提高所制備薄膜厚度的方法無效
| 申請號： | 200810045514.3 | 申請日： | 2008-07-10 |
| 公開（公告）號： | CN101324756A | 公開（公告）日： | 2008-12-17 |
| 發明（設計）人： | 杜曉松;蔣亞東;胡佳 | 申請（專利權）人： | 電子科技大學 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16;B05C11/02;B05D3/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 610054四*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 旋涂法中 提高 制備 薄膜 厚度 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種在旋涂法中提高所制備薄膜厚度的方法，其特征在于，對鍍膜基板進行預處理，使基板四周邊緣區域帶有凸起的臺階，臺階形成閉合的邊框，薄膜旋涂制備在邊框形成的閉合區域內，旋涂薄膜的厚度通過調節臺階的高度來調節。
2.根據權利要求1所述的在旋涂法中提高所制備薄膜厚度的方法，其特征在于，所述的臺階是通過旋涂光刻膠或粘貼膠帶的方法形成，臺階的高度為5-500μm。
3.根據權利要求1所述的在旋涂法中提高所制備薄膜厚度的方法，其特征在于，所述的閉合區域的形狀是圓環形或多邊形。
4.根據權利要求1所述的在旋涂法中提高所制備薄膜厚度的方法，其特征在于，所述光刻膠臺階的制備步驟包括：①旋涂光刻膠；②在掩模下曝光；③顯影形成臺階；④高溫烘烤固化。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于電子科技大學，未經電子科技大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810045514.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：兒童肩跨安全帶
- 下一篇：使用低壓晶體管的高壓電源開關
