[發(fā)明專利]含三氰基二氫呋喃結(jié)構(gòu)單元的非線性光學(xué)聚合物材料及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810045401.3
• 申請日: 2008-06-26
• 公開（公告）號: CN101293952A
• 公開（公告）日: 2008-10-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蔣亞東;韓莉坤;李偉
• 申請（專利權(quán)）人: 電子科技大學(xué)
• 主分類號: C08G61/02
• 分類號: C08G61/02;C08J5/18;G02F1/361
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1、一種含三氰基二氫呋喃結(jié)構(gòu)單元的非線性光學(xué)聚合物材料，其特征在于，其分子結(jié)構(gòu)如(I)所示：

其中聚合度n＝20-400，R₁和R₂為烷基取代基，其化學(xué)表達(dá)式可以是：-CH₃、-CH₂CH₃、-CH₂CH₂CH₃、

2、一種含三氰基二氫呋喃結(jié)構(gòu)單元的非線性光學(xué)聚合物材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

①、將適量的三氰基二氫呋喃單體溶于有機(jī)溶劑，其濃度為300-500mmol/L，將等摩爾量的1，4-雙鹵甲基苯與適量的催化劑溶于有機(jī)溶劑中，其濃度為300-500mmol/L，采用滴加的辦法緩慢加入至含三氰基二氫呋喃單體的有機(jī)溶劑溶液中，通氮氣保護(hù)，在溫度70℃-80℃下反應(yīng)6-8小時；

②、將步驟①所得的溶液中冷卻至室溫，加入質(zhì)量分?jǐn)?shù)8-15％的鹽酸溶液，攪拌，分出水相，有機(jī)相用無水CaCO₃干燥，然后倒入大量丙酮析出聚合物；

③、將步驟②所得的聚合物過濾，再用甲苯溶解，并再倒入大量丙酮，析出聚合物，重復(fù)操作2次，最后真空干燥，即得含三氰基二氫呋喃結(jié)構(gòu)單元的非線性光學(xué)聚合物材料。

3、根據(jù)權(quán)利要求2所述的含三氰基二氫呋喃結(jié)構(gòu)單元的非線性光學(xué)聚合物材料的制備方法，其特征在于，所述有機(jī)溶劑為氯苯、溴苯、鄰二氯苯和N-甲基吡咯烷酮中的一種。

4、根據(jù)權(quán)利要求2所述的含三氰基二氫呋喃結(jié)構(gòu)單元的非線性光學(xué)聚合物材料的制備方法，其特征在于，所述1，4-雙鹵甲基苯包括1，4-雙氯甲基苯和1，4-雙溴甲基苯。

5、根據(jù)權(quán)利要求2所述的含三氰基二氫呋喃結(jié)構(gòu)單元的非線性光學(xué)聚合物材料的制備方法，其特征在于，所述催化劑包括SnCl₄和TiCl₄。

6、一種制備含三氰基二氫呋喃結(jié)構(gòu)單元的非線性光學(xué)聚合物薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：將上述所得的含三氰基二氫呋喃結(jié)構(gòu)單元的非線性光學(xué)聚合物溶于氯苯中，配成質(zhì)量分?jǐn)?shù)為15％的溶液，用0.4μm的針頭過濾器進(jìn)行過濾，除去不溶物后，在ITO玻璃基片通過甩膠的方式得到非線性光學(xué)聚合物薄膜材料。