[發明專利]一種強取向雙軸織構的鎳－銅金屬基帶層的制備方法無效
| 申請號： | 200810044501.4 | 申請日： | 2008-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN101250705A | 公開（公告）日： | 2008-08-27 |
| 發明（設計）人： | 鄭果;蒲明華;劉見芬;趙勇;王賀龍 | 申請（專利權）人： | 西南交通大學 |
| 主分類號： | C23F17/00 | 分類號： | C23F17/00;C22F1/08;C25F3/22;C25D3/12;B08B3/12 |
| 代理公司： | 成都博通專利事務所 | 代理人： | 陳樹明 |
| 地址： | 610031四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 取向 雙軸織構 金屬 基帶 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.?一種強取向雙軸織構的鎳-銅金屬基帶層的制備方法，其具體作法是：
a、退火：將銅片放入管式爐中，并通入體積比重為5％氫氣、95％氬氣組成的氫氬混合氣體，按100-200℃/h的升溫速率升至590-610℃，保溫2小時左右，然后自然冷卻；
b、拋光：按三氧化鉻18-23g/L，85％磷酸940-960ml/L，95-98％硫酸40-60ml/L混合均勻，配制成拋光液；再在拋光液中以a步處理后的銅片為陽極，其他活性較好的金屬如鋁、銅等金屬為陰極，以200-400mA的電流進行電化學拋光，拋光時間2-5分鐘；
c、電鍍：按硫酸鎳95-110g/L，氯化鎳8-15g/L，硼酸25-30g/L的比例，配制成去離子水溶液，形成電鍍液；將b步拋光處理后的銅片作陰極，鎳片作陽極進行電鍍，電鍍時間5-15分鐘，電流10-50mA。
2.?根據權利要求1所述的一種強取向雙軸織構的鎳-銅金屬基帶層的制備方法，其特征在于：在進行所述的a步退火前，先將銅片放入丙酮或無水乙醇中進行0.5-1小時超聲清洗。
3.?根據權利要求1所述的一種強取向雙軸織構的鎳-銅金屬基帶層的制備方法，其特征在于：在進行所述的a步退火后，先將銅片放入3％-8％的稀鹽酸中清洗后，再對銅片進行b步的拋光處理。
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