[發(fā)明專(zhuān)利]復(fù)合導(dǎo)電膜及使用該膜的觸摸屏無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810044402.6 | 申請(qǐng)日: | 2008-05-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101581800A | 公開(kāi)(公告)日: | 2009-11-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 甘國(guó)工 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 甘國(guó)工 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02B1/11 | 分類(lèi)號(hào): | G02B1/11;B32B7/02;B32B7/12;B32B33/00;B32B9/00;G06F3/041 |
| 代理公司: | 成都立信專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 江曉萍 |
| 地址: | 610100四川省成都市龍泉驛區(qū)經(jīng)濟(jì)*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 復(fù)合 導(dǎo)電 使用 觸摸屏 | ||
1、復(fù)合導(dǎo)電膜,包括具有上表面及下表面的第一柔性透光基層L1,具有上表面及下表面的第二柔性透光基層L2,第一柔性透光基層L1的下表面和第二柔性透光基層L2的上表面間有將二者粘接為一體的彈性粘接劑層,在第二柔性透光基層L2的下表面依次沉積有由高折射率無(wú)機(jī)介質(zhì)膜、低折射率無(wú)機(jī)介質(zhì)依次交錯(cuò)排列形成的有至少兩層無(wú)機(jī)介質(zhì)膜的無(wú)機(jī)介質(zhì)膜系及位于該無(wú)機(jī)介質(zhì)膜系最外層的透明導(dǎo)電膜層,其特征在于透明導(dǎo)電膜層的厚度為滿足方塊電阻100~1000Ω/□需要的厚度3~100nm,至少兩層的由高折射率無(wú)機(jī)介質(zhì)膜和低折射率無(wú)機(jī)介質(zhì)膜構(gòu)成的無(wú)機(jī)介質(zhì)膜系和透明導(dǎo)電膜層都采用真空磁控濺射的方法沉積、從而形成在380nm~780nm光波長(zhǎng)范圍內(nèi)整體透過(guò)率達(dá)到80%以上的光學(xué)干涉膜系。
2、如權(quán)利要求1所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于第一柔性透光基層L1的上表面有至少具有防污、潤(rùn)滑、防劃、抗眩光、增硬、增透減反功能之一的涂層和/或鍍膜層。
3、如權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于第一柔性透光基層L1的上表面有含氟有機(jī)物薄膜或有機(jī)硅薄膜。
4、如權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于高折射率無(wú)機(jī)介質(zhì)是氧化鈦或者氧化鈮。
5、如權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于高折射率無(wú)機(jī)介質(zhì)膜厚度范圍在10~80nm,低折射率無(wú)機(jī)介質(zhì)膜厚度范圍在20~150nm。
6、如權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于彈性粘接劑層具有比第二柔性透光基層L2的楊氏模量低的楊氏模量。
7、如權(quán)利要求6所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于彈性粘接劑層的楊氏模量在105~108Pa范圍內(nèi)。
8、如權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于至少兩層的由高折射率無(wú)機(jī)介質(zhì)膜和低折射率無(wú)機(jī)介質(zhì)膜構(gòu)成的無(wú)機(jī)介質(zhì)膜系和透明導(dǎo)電膜層的楊氏模量分別大于15GPa。
9、如權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于彈性粘接劑層的彈性變形功在60%以上。
10、如權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于透明導(dǎo)電膜層由氧化銦、氧化錫、氧化鋅、摻銦的氧化錫、摻銻的氧化錫、摻鋁的氧化鋅中的至少一種組成。
11、如權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于當(dāng)?shù)诙嵝酝腹饣鶎覮2的折射率為n1,高折射率的無(wú)機(jī)介質(zhì)折射率為n2、低折射率的無(wú)機(jī)介質(zhì)折射率為n3、透明導(dǎo)電膜層的折射率為n4時(shí),滿足n2>n1、或n2>n3、或n4>n1、或n4>n3。
12、如權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于第一柔性透光基層L1和第二柔性透光基層L2之間有霧度在5%以下的光散射層。
13、如權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合導(dǎo)電膜,其特征在于第一柔性透光基層L1和/或第二柔性透光基層L2為相位差薄膜,并且該復(fù)合導(dǎo)電膜整體賦予λ/4的相位差。
14、一種觸摸屏,其特征在于權(quán)利要求1至13任意一項(xiàng)所述的復(fù)合導(dǎo)電膜作為觸摸屏的中的至少一種導(dǎo)電基材。
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