[發明專利]超薄石墨片作襯底的碲化鎘太陽電池無效
| 申請號: | 200810044295.7 | 申請日: | 2008-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN101267007A | 公開(公告)日: | 2008-09-17 |
| 發明(設計)人: | 張靜全;雷智;馮良桓;蔡亞平;武莉莉;李衛;黎兵;鄭家貴 | 申請(專利權)人: | 四川大學 |
| 主分類號: | H01L31/045 | 分類號: | H01L31/045;H01L31/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610065四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 超薄 石墨 襯底 碲化鎘 太陽電池 | ||
1、一種石墨片作襯底的碲化鎘薄膜太陽電池結構:石墨片襯底的厚度為50~500微米,結構是石墨片/p-CdTe/n-CdS/TCO/Al,其特征是首先在石墨片上沉積一層銅,然后進行熱處理,再沉積一層碲,然后以此進行了處理的石墨片作為襯底依次沉積碲化鎘薄膜、硫化鎘薄膜、透明導電氧化物薄膜、柵狀鋁電極,得到碲化鎘太陽電池。
2、如權利要求1所述的碲化鎘薄膜太陽電池的結構,其特征是在石墨片上沉積的銅層厚度為50~200納米。
3、如權利要求1所述的碲化鎘薄膜太陽電池的結構,其特征是沉積了銅層的石墨片的熱處理條件為:200~300℃,20~40分鐘。
4、如權利要求1所述的碲化鎘薄膜太陽電池的結構,其特征是在進行了熱處理的石墨片上沉積的碲層厚度為20~100納米。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





