[發(fā)明專利]硅片清洗機(jī)及硅片清洗方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810044002.5
• 申請日: 2008-11-25
• 公開（公告）號: CN101740324A
• 公開（公告）日: 2010-06-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 寧開明
• 申請（專利權(quán)）人: 上海華虹NEC電子有限公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/02;H01L21/306;H01L21/677;B08B3/12
• 代理公司: 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211
• 代理人: 丁紀(jì)鐵

1.一種硅片清洗機(jī)，其特征在于：包括硅片承載臺、旋轉(zhuǎn)手臂、硅片清洗槽、旋轉(zhuǎn)干燥單元；所述旋轉(zhuǎn)手臂的一側(cè)設(shè)置硅片承載臺，旋轉(zhuǎn)手臂的下方設(shè)置硅片清洗槽，所述硅片清洗槽內(nèi)設(shè)有硅片接受器；旋轉(zhuǎn)手臂的該側(cè)或另一側(cè)設(shè)置旋轉(zhuǎn)干燥單元；旋轉(zhuǎn)手臂與硅片承載臺之間，以及旋轉(zhuǎn)手臂與旋轉(zhuǎn)干燥單元之間設(shè)置有傳送桿；

旋轉(zhuǎn)手臂在豎直面內(nèi)做圓周運(yùn)動，旋轉(zhuǎn)手臂接收來自于硅片承載臺的硅片，與此同時，旋轉(zhuǎn)手臂將另一硅片傳遞給旋轉(zhuǎn)干燥單元，并且與硅片接受器交換第三硅片。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于：所述硅片接受器包括驅(qū)動馬達(dá)、升降軸、夾持部；驅(qū)動馬達(dá)連接升降軸，升降軸的頂部連接夾持部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于：所述夾持部包括兩對或多對并列的夾子。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于：所述硅片清洗槽為超聲波清洗槽或濕法腐蝕槽。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)干燥單元包括旋轉(zhuǎn)筒、旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，旋轉(zhuǎn)馬達(dá)驅(qū)動旋轉(zhuǎn)筒旋轉(zhuǎn)；旋轉(zhuǎn)筒內(nèi)設(shè)有夾持件。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)手臂包括手臂支架、連接器、驅(qū)動馬達(dá)；手臂支架的一端與連接器連接，連接器與驅(qū)動馬達(dá)連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于：所述手臂支架為彼此形成十字形的四個；或者手臂支架為互相垂直的兩個；或者手臂支架為一個。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于：所述手臂支架包括彼此形成剪刀狀的兩個夾柄，夾柄的尾端連接行星齒輪；所述兩個行星齒輪互相噬合；所述手臂支架包括一對或多對并列的夾柄。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)手臂包括夾子、驅(qū)動馬達(dá)；驅(qū)動馬達(dá)帶動夾子在水平位置與垂直位置之間轉(zhuǎn)換。

10.一種利用權(quán)利要求1所述的硅片清洗機(jī)清洗硅片的方法，其特征在于：通過以下步驟清洗硅片：

第一步，通過傳送桿將硅片承載臺上的硅片傳遞給處于水平位置的旋轉(zhuǎn)手臂；

第二步，旋轉(zhuǎn)手臂接受硅片后，使旋轉(zhuǎn)手臂垂直；

第三步，使硅片清洗槽內(nèi)的硅片接受器上升，與旋轉(zhuǎn)手臂實(shí)現(xiàn)對接，旋轉(zhuǎn)手臂將硅片傳遞給硅片接受器；

第四步，使硅片接受器下降，硅片接受器上的硅片浸入硅片清洗槽內(nèi)的清洗液；清洗硅片；

第五步，硅片清洗完畢后，使硅片接受器上升，硅片接受器將硅片傳遞給旋轉(zhuǎn)手臂；

第六步，使旋轉(zhuǎn)手臂恢復(fù)水平位置；

第七步，通過傳送桿將手臂支架上的硅片傳遞給旋轉(zhuǎn)干燥單元；

第八步，驅(qū)動旋轉(zhuǎn)干燥單元，甩干硅片。