[發明專利]光刻機透鏡像差的檢測裝置及其方法

有效

• 申請號: 200810043651.3
• 申請日: 2008-07-21
• 公開（公告）號: CN101634808A
• 公開（公告）日: 2010-01-27
• 發明（設計）人: 王雷
• 申請（專利權）人: 上海華虹NEC電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司
• 代理人: 顧繼光

1.一種光刻機透鏡像差檢測裝置，其特征是：所述裝置包括：

一入射光發生裝置，發射入射光；

一成像透鏡，選取所述光刻機的主透鏡；

一光柵和一硅片平臺，分別放置在所述透鏡的光路兩側；

一檢測器，集成在所述硅片平臺上，測量通過所述透鏡的折射光在所述硅片平臺上形成的焦點的位置、形狀、大小和焦距。

2.根據權利要求1所述的光刻機透鏡像差檢測裝置，其特征是：以所述光柵的中心為原點建立一個三維坐標系，其中的X軸、Y軸所形成的XY平面與所述透鏡、所述硅片平臺呈平行位置。

3.根據權利要求2所述的光刻機透鏡像差檢測裝置，其特征是：所述光柵的中心、所述透鏡的中心、所述硅片平臺的中心均在所述三維坐標系的Z軸上。

4.根據權利要求2所述的光刻機透鏡像差檢測裝置，其特征是：所述光柵沿所述三維坐標系的X軸、Y軸、Z軸自由轉動。

5.根據權利要求4所述的光刻機透鏡像差檢測裝置，其特征是：所述光柵為透射光柵或反射光柵，所述反射光柵包括閃耀光柵。

6.一種如權利要求1所述的光刻機透鏡像差檢測裝置對光刻機透鏡像差進行檢測的方法，其特征是：所述方法包括如下步驟：

第1步，開啟入射光發生裝置，入射光照射到光柵上，通過光柵的衍射光或反射光照射到透鏡上，通過透鏡的折射光照射到硅片平臺上；

第2步，調整所述硅片平臺和所述透鏡的距離、位置，直至所述折射光在所述硅片平臺上形成焦點；

第3步，所述硅片平臺上集成的檢測器測量所述焦點的位置、形狀、大小和焦距并判斷是否符合要求；

第4步，沿X軸、Y軸和/或Z軸轉動所述光柵，使所述衍射光或反射光照射到所述透鏡的不同位置，重復第1步至第4步。

7.根據權利要求6所述的光刻機透鏡像差檢測裝置對光刻機透鏡像差進行檢測的方法，其特征是：所述方法的第4步中，所述衍射光或反射光至少照射到所述透鏡的所有待測位置；所述方法的第3步中，所述檢測器至少測量并判斷通過所述透鏡的所有待測位置的焦點的形狀、大小和焦距。

8.根據權利要求6所述的光刻機透鏡像差檢測裝置對光刻機透鏡像差進行檢測的方法，其特征是：所述方法的第1步中，通過光柵的衍射光或反射光的最強光強、次強光強或再次強光強照射到透鏡上，通過透鏡形成折射光。