[發明專利]一種絕緣子專用清潔劑及其制備方法有效
| 申請號： | 200810043645.8 | 申請日： | 2008-07-18 |
| 公開（公告）號： | CN101629129A | 公開（公告）日： | 2010-01-20 |
| 發明（設計）人： | 張思平 | 申請（專利權）人： | 張思平 |
| 主分類號： | C11D1/66 | 分類號： | C11D1/66;C11D3/24;C11D1/18;C11D3/20;H01B17/00 |
| 代理公司： | 上海三和萬國知識產權代理事務所 | 代理人： | 劉立平 |
| 地址： | 200030上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 絕緣子 專用 清潔劑 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種清潔劑，其特征在于，包含以下質量百分比的組成成分：聚乙二醇辛基苯醚1～20％，壬基酚聚氧乙烯醚1～20％，二氯甲烷1～3％，C5H2F105～20％，C3HCl2F510～30％，C2Cl3H35～15％；還包括選自以下組分的一種或多種：低級烷烴、低級醇類、低級烯烴。
2.如權利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述聚乙二醇辛基苯醚含量為1～5％，所述壬基酚聚氧乙烯醚含量為5～10％。
3.如權利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述低級烷烴包括庚烷0～1％、己烷0～1％、辛烷0～1％。
4.如權利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述低級醇類包括乙醇0～1％。
5.如權利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述低級烯烴包括乙烯0～1％。
6.如權利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述清潔劑的pH值為6.8～7.2。?
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