[發明專利]裸晶測試機臺用緩沖分類裝置及該機臺有效
| 申請號: | 200810043281.3 | 申請日: | 2008-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN101567327A | 公開(公告)日: | 2009-10-28 |
| 發明(設計)人: | 林漢聲 | 申請(專利權)人: | 中茂電子(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66;G01R31/26;G01R31/28 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 | 代理人: | 丁紀鐵 |
| 地址: | 518054廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測試 機臺 緩沖 分類 裝置 | ||
1.一種裸晶測試機臺用緩沖分類裝置,供該機臺測試的多個裸晶被置放于多個測試承載盤中,且每一測試承載盤中均形成有多個分別用以承載該等裸晶的承載槽,其特征是,受該機臺處理裝置驅動的緩沖分類裝置包括:
用于置放上述測試承載盤的緩沖區;
多個用于分類置放該等受測裸晶、且分別形成有多個收納該等裸晶的容置槽的出料承載盤;
將該等位于緩沖區中的測試承載盤內的受測裸晶依照該處理裝置驅動訊號分別移入對應出料承載盤中的搬移器。
2.根據權利要求1所述的裸晶測試機臺用緩沖分類裝置,其特征是,緩沖區位于機臺的基座上。
3.根據權利要求1所述的裸晶測試機臺用緩沖分類裝置,其特征是,搬移器為設置有吸嘴的機械臂。
4.根據權利要求3所述的裸晶測試機臺用緩沖分類裝置,其特征是,該吸嘴具有大于一個預定截面的吸附部,藉此將吸力分散至被吸取的該裸晶的一個預定面積。
5.一種裸晶測試機臺,供該機臺測試的多個裸晶被置放于多個測試承載盤中,且每一測試承載盤中均形成有多個分別用以承載該等裸晶的承載槽,其特征是,該機臺包含:基座、輸送該等承載盤的輸送裝置、對應該輸送裝置的檢測裝置、接受該檢測裝置訊號而判定該等受測裸晶性能的處理裝置及受該處理裝置驅動的如權利要求1-4中任何一項所述的緩沖分類裝置。
6.根據權利要求5所述的裸晶測試機臺,其特征是,還包含用于置放多組分別容納有多個該等受測裸晶的測試承載盤的入料裝置。
7.根據權利要求6所述的裸晶測試機臺,其特征是,該輸送裝置包括將該等測試承載盤由該入料裝置移至對應該檢測裝置的入料運送器及將該等測試承載盤由對應該檢測裝置移至該緩沖區的出料運送器。
8.根據權利要求5所述的裸晶測試機臺,其特征是,該檢測裝置包括多個分別輸出訊號至該處理裝置的檢測端口。
9.根據權利要求8所述的裸晶測試機臺,其特征是,該檢測裝置還包括多個分別對應該等檢測端口,供同步檢測該測試承載盤中所有該等受測裸晶的探針卡,及
多個分別對應該等探針卡位置,供舉升該等測試承載盤的舉升臂。
10.根據權利要求5-9中任何一項所述的裸晶測試機臺,其特征是,還包含對應該輸送裝置和/或該檢測裝置,并將該等測試承載盤中的該等裸晶位置數據輸出至該處理裝置的影像擷取裝置。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





