[發明專利]制造液晶顯示面板用掩模板無效
| 申請號： | 200810043278.1 | 申請日： | 2008-04-22 |
| 公開（公告）號： | CN101566790A | 公開（公告）日： | 2009-10-28 |
| 發明（設計）人： | 汪梅林 | 申請（專利權）人： | 上海天馬微電子有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/14 | 分類號： | G03F1/14;G03F1/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 201201上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 制造 液晶顯示 面板 模板 | ||
【權利要求書】：
1.一種掩模板，包括多個單元產品掩模圖形，用于液晶顯示面板制造的光刻工藝，其中所述單元產品掩模圖形包括開孔，并且所述開孔的孔邊緣形成多個非規則直線圖形。
2.根據權利要求1所述的掩模板，其中所述孔邊緣的非規則直線圖形為三角形、正方形或半圓形的任一種。
3.根據權利要求2所述的掩模板，其中所述非規則直線圖形的尺寸以及間距小于制造液晶顯示面板的曝光機的曝光精度。
4.根據權利要求3所述的掩模板，其中所述非規則直線圖形的尺寸以及間距小于3μm。
5.根據權利要求3或權利要求4所述的掩模板，其中所述非規則直線圖形的尺寸為所述三角形底邊、所述正方形邊長和所述半圓形的直徑中的任一個。
6.根據權利要求1所述的掩模板，其中所述孔邊緣的非規則直線圖形為兩個或兩個以上與所述開孔的各邊平行的細線條框。
7.根據權利要求6所述的掩模板，其中所述細線條框的寬度，所述細線條框與所述開孔之間的間距，以及所述細線條框之間的間距小于制造液晶顯示面板的曝光機的曝光精度。
8.根據權利要求7所述的掩模板，其中所述細線條框的寬度，所述細線條框與所述開孔之間的間距，以及所述細線條框之間的間距均小于3μm。
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G03 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
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G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
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G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
