[發(fā)明專利]具有銀薄膜的抑菌基材及其制造方法和制備裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810043270.5 | 申請日: | 2008-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN101275215A | 公開(公告)日: | 2008-10-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張錫強 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州工業(yè)園區(qū)鴻錦納米有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/14 | 分類號: | C23C14/14;C23C14/18;C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京瑞盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 王友彭 |
| 地址: | 205123江蘇省蘇州市蘇州工*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 薄膜 基材 及其 制造 方法 制備 裝置 | ||
1、一種具有銀薄膜的抑菌基材,包括基材,其特征在于:所述基材上濺鍍有20-40nm的銀薄膜,具有抑菌功能。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有銀薄膜的抑菌基材,其特征在于:所述的基材選自纖維材料和塑膠材料。
3、一種具有銀薄膜的抑菌基材的制造方法,包括以下步驟:
1)濺鍍準備:在預抽腔前將基材放置于可傳動的載具上,打開預抽腔,將基材送進預抽腔內(nèi)。將預抽腔的壓力抽至10-4托后,基材在此等侍;一旦濺鍍腔內(nèi)送出已濺鍍過的基材后,即可開腔讓待鍍之基材進入;
2)濺鍍形成納米級銀薄膜:在濺鍍腔中設置一濺鍍靶源,此濺鍍靶源上放置靶材;當基材傳動至濺鍍腔內(nèi)后,即可關閉腔門開始抽氣;當壓力達到10×10-6~6×10-6托時,即可充入惰性氣體氬,并通過預定功率的電流使其形成Ar+電漿;當Ar+被加速往銀靶材上撞擊后,它們能將銀原子轟擊濺出,并沉積附著在底材的表面,形成納米級的銀薄膜;
3)送出成品:濺鍍完后,即可開腔將基材向另一預抽腔送出。
步驟2)中所述的預定功率為5~20kw及基材轉(zhuǎn)動的速度為1~10米/分的條件下,所得的銀薄膜的厚度為20~40nm,均勻的分布在被鍍之基材上。
4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種具有銀薄膜的抑菌基材的制造方法,其特征在于:步驟2)中所述的靶材為銀靶材或氧化銀靶材。
5、根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種具有銀薄膜的抑菌基材的制造方法,其特征在于:步驟2)中所述的氣體為氬氣,流量為1~10mtorr。
6、根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種具有銀薄膜的抑菌基材的制造方法,其特征在于:基材與靶材的面積比是4∶5兩者間的距離為3~7cm。
7、一種制造具有銀薄膜的抑菌基材的裝置,其特征在于:包括預抽腔和濺鍍腔,所述的預抽腔設置于兩端,中間為濺鍍腔,預抽腔與濺鍍腔相連通;載具水平貫通于預抽腔和濺鍍腔,并通過傳動軸傳動,將基材連載到下一個腔體;所述的預抽腔上設置有抽氣機構(gòu),所述的抽氣機構(gòu)自腔體向外依次為氣閥、魯式泵和旋轉(zhuǎn)泵;所述的濺鍍腔上設置有抽氣機構(gòu),所述的抽氣機構(gòu)自腔體向外依次為渦輪泵、氣閥、魯式泵和旋轉(zhuǎn)泵;在濺鍍腔上還設有管道與氬氣源相通,濺鍍腔與氬氣源之間由氣閥控制。預抽腔的主要目的是當濺鍍腔在工作時,它可預抽空氣,縮短將濺鍍腔抽氣的時間。
8、根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種制造具有銀薄膜的抑菌基材的裝置,其特征在于:所述載具材質(zhì)為鋁合金,通過齒輪傳動。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





