[發明專利]等離子體表面清洗裝置無效
| 申請號： | 200810042669.1 | 申請日： | 2008-09-09 |
| 公開（公告）號： | CN101402095A | 公開（公告）日： | 2009-04-08 |
| 發明（設計）人： | 陳彩剛;夏芃;施松林;熊軍;劉古巖 | 申請（專利權）人： | 上海拓引數碼技術有限公司 |
| 主分類號： | B08B7/00 | 分類號： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 | 代理人： | 鄧 琪 |
| 地址： | 200234上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 表面 清洗 裝置 | ||
【權利要求書】：
1、一種等離子體表面清洗裝置，其特征在于包括：
至少一真空腔體(1)，其上開有一進氣口(11)和一抽氣口(12)；
一傳動裝置，設在真空腔體(1)內；
一對金屬板(3，4)，分別設在傳動裝置的上下方，與一偏壓電源的正負極相連接。
2、如權利要求1所述的等離子體表面清洗裝置，其特征在于還包括：一熱絲(6)，設在金屬板(3)和金屬板(4)之間。
3、如權利要求2所述的等離子體表面清洗裝置，其特征在于：所述傳動裝置為傳動滾輪(2)，與下方金屬板(4)靠近。
4、如權利要求3所述的等離子體表面清洗裝置，其特征在于：所述偏壓電源(5)為直流或中頻矩形波電源。
5、如權利要求3或4所述的等離子體表面清洗裝置，其特征在于：真空腔體(1)內充氬氣。
6、如權利要求5所述的等離子體表面清洗裝置，其特征在于：所述真空腔體在進氣前的壓強為10-5Pa～10-1Pa，在進氣后的壓強為10-1Pa～100Pa。
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