[發明專利]一種化學機械拋光液有效
| 申請號： | 200810042570.1 | 申請日： | 2008-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN101665663A | 公開（公告）日： | 2010-03-10 |
| 發明（設計）人： | 王晨;楊春曉;荊建芬 | 申請（專利權）人： | 安集微電子（上海）有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203上海市浦東新區張江高科*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 | ||
1.一種化學機械拋光液，其含有研磨顆粒和水，其特征在于：其還同時含有雙胍類化合物和氮唑類化合物以及電解質鹽，其中所述的電解質鹽為酸的金屬鹽和非金屬鹽；其中所述金屬鹽為鉀鹽、非金屬鹽為銨鹽；所述酸為硝酸、亞硝酸、磷酸、鹽酸、硫酸或碳酸。
2.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的雙胍類化合物選自雙胍、二甲雙胍、苯乙雙胍、嗎啉呱、1,1’-己基雙[5-(對氯苯基)雙胍]及上述化合物的酸加成鹽中的一種或多種。
3.如權利要求2所述的拋光液，其特征在于：所述的酸為鹽酸、磷酸、硝酸、醋酸、葡萄糖酸或磺酸。
4.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的雙胍類化合物的含量為質量百分比0.01~7%。
5.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的氮唑類化合物為三氮唑和四氮唑及其衍生物中的一種或多種。
6.如權利要求5所述的拋光液，其特征在于：所述的氮唑類化合物為1,2,4-三氮唑、3-氨基-1,2,4-三氮唑、5-羧基-3-氨基1,2,4-三氮唑和5-氨基四氮唑中的一種或多種。
7.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的氮唑類化合物的含量為質量百分比0.01~15%。
8.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的研磨顆粒選自SiO2、Al2O3、ZrO2、CeO2、SiC、Fe2O3、TiO2和Si3N4中的一種或多種。
9.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的研磨顆粒的含量為質量百分比0.1~30%。
10.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的研磨顆粒的粒徑為30~120nm。
11.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的拋光液的pH范圍為8~12。
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