[發明專利]增強硅基成像器件紫外響應無機薄膜的制備方法

無效

• 申請號: 200810041913.2
• 申請日: 2008-08-21
• 公開（公告）號: CN101345271A
• 公開（公告）日: 2009-01-14
• 發明（設計）人: 張大偉;劉猛;田鑫;倪爭技;黃元申;莊松林
• 申請（專利權）人: 上海理工大學
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/00
• 代理公司: 上海東創專利代理事務所
• 代理人: 寧芝華

1.增強硅基成像器件紫外響應無機薄膜的制備方法，其特征在于：在光電器件光敏面基片的光入射面采用旋轉鍍膜的方法生成Zn₂SiO₄∶Mn膜層，該膜層將紫外光轉化為可見光；步驟如下：首先將Zn₂SiO₄∶Mn和甲基丙烯酸甲酯配制成溶膠，充分攪拌，然后將溶膠置于光敏面基片，利用旋轉鍍膜機制得初步鍍膜后，再滴入甲苯，繼續重復旋轉鍍膜，剝去甲基丙烯酸甲酯成分，得到Zn₂SiO₄∶Mn膜層。

2.根據權利要求1所述的增強硅基成像器件紫外響應無機薄膜的制備方法，其特征在于：所述的Zn₂SiO₄和Mn的質量比為Zn₂SiO₄∶Mn＝100∶2.4。

3.根據權利要求1所述的增強硅基成像器件紫外響應無機薄膜的制備方法，其特征在于：所述的甲基丙烯酸甲酯和Zn₂SiO₄∶Mn熒光粉按質量比1∶0.94：配制。

4.根據權利要求1所述的增強硅基成像器件紫外響應無機薄膜的制備方法，其特征在于：所述的旋轉鍍膜選用6-10r/s²(轉/平方秒)加速度啟動旋轉鍍膜機進行勻膠，選用旋轉速度4000--6000r/min(轉/分鐘)進行旋轉鍍膜，最后選用6-10r/s²(轉/平方秒)負加速度停止鍍膜機。