[發(fā)明專利]用于785納米波段熔融石英透射1×3偏振無關(guān)分束光柵無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810041642.0 | 申請(qǐng)日: | 2008-08-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101339264A | 公開(公告)日: | 2009-01-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周常河;馮吉軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G02B5/18 | 分類號(hào): | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人: | 張澤純 |
| 地址: | 201800上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 785 納米 波段 熔融 石英 透射 偏振 無關(guān) 光柵 | ||
1.一種用于785納米波段的熔融石英透射1×3偏振無關(guān)分束光柵,是一種矩形高密度深刻蝕光柵,光柵的占空比為0.5,其特征在于該光柵的周期的取值范圍為1064-1072納米、刻蝕深度范圍為2.580-2.602微米。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔融石英透射1×3偏振無關(guān)分束光柵,其特征在于所述光柵的周期為1068納米,刻蝕深度為2.591微米。
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