[發明專利]一種優化的人臉識別方法和裝置有效
| 申請號: | 200810041105.6 | 申請日: | 2008-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN101329724A | 公開(公告)日: | 2008-12-24 |
| 發明(設計)人: | 郭鳳;周賢君;胡金演;倪麗佳;吳旭;王裕友 | 申請(專利權)人: | 上海天冠衛視技術研究所;上海大學 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人: | 陳亮 |
| 地址: | 20023*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 優化 識別 方法 裝置 | ||
1.一種優化的人臉識別方法,將主成分分析和線性判別分析結合起來,該方法包括:
(1)將人臉圖像的訓練樣本集xi,i=1,2,...N,該訓練樣本集包括N個樣本xi,中心化之后,根據公式計算得到協方差矩陣C,其中N為訓練樣本的總數,為訓練樣本中心化后的向量,M為協方差矩陣C的最大特征值的個數,在步驟(1)中,訓練樣本的中心化進一步包括:
計算訓練樣本集的平均臉:
計算訓練樣本中心化后的向量
(2)計算協方差矩陣C的M個最大特征值對應的特征向量,該M個特征向量組成主成分分析投影矩陣:
(3)利用該主成分分析投影矩陣,將人臉圖像空間轉化為降維的特征臉空間,獲得人臉圖像的最佳描述特征:
(4)計算由y1,...,yi,...yN構成的類內散布矩陣Sw和類間散布矩陣Sb,步驟(4)進一步包括:
計算第i類訓練樣本均值為:
計算由y1,..,yi,...yN構成的訓練樣本的類內散布矩陣Sw:
計算訓練樣本的類間散布矩陣Sb:
(5)計算矩陣Sw-1Sb的k個最大特征值對應的特征向量W1lda,...,Wilda,...Wklda,其中k為矩陣Sw-1Sb的最大特征值的個數,由該k個最大特征值對應的特征向量構成線性判別分析投影矩陣
(6)利用線性判別分析投影矩陣將該特征臉空間進一步降維到k維最佳鑒別空間,獲得人臉圖像的最佳分類特征:
(7)計算轉換矩陣W=WpcaWlda,以作為最后的投影方向;
(8)將測試樣本和訓練樣本分別投影到轉換矩陣W,獲得各自的投影系數;
(9)根據最小歐氏距離進行判別。
2.一種優化的人臉識別裝置,將主成分分析和線性判別分析結合起來,該裝置包括:
協方差矩陣計算模塊,將人臉圖像的訓練樣本集xi,i=1,2,...N,該訓練樣本集包括N個樣本xi,中心化之后,根據公式計算得到協方差矩陣C,其中N為訓練樣本的總數,為訓練樣本中心化后的向量,M為協方差矩陣C的最大特征值的個數,該協方差矩陣計算模塊還包括:
訓練樣本中心化單元,進一步包括:
平均臉計算單元,計算訓練樣本集的平均臉:
中心化向量計算單元,計算訓練樣本中心化后的向量
主成分分析投影矩陣計算模塊,計算協方差矩陣C的M個最大特征值對應的特征向量,該M個特征向量組成主成分分析投影矩陣:
特征臉空間獲得模塊,利用該主成分分析投影矩陣計算模塊得到的主成分分析投影矩陣,將人臉圖像空間轉化為降維的特征臉空間,獲得人臉圖像的最佳描述特征:
散布矩陣計算模塊,計算由y1,...,yi,...yN構成的類內散布矩陣Sw和類間散布矩陣Sb,散布矩陣計算模塊進一步包括:
樣本均值計算單元,計算第i類訓練樣本均值為:
類內散布矩陣計算單元,計算由y1,..,yi,...yN構成的訓練樣本的類內散布矩陣Sw:
類間散布矩陣計算單元,計算訓練樣本的類間散布矩陣Sb:
線性判別分析投影矩陣計算模塊,計算矩陣Sw-1Sb的k個最大特征值對應的特征向量W1lda,...,Wilda,...Wklda,其中k為矩陣Sw-1Sb的最大特征值的個數,由該k個最大特征值對應的特征向量構成線性判別分析投影矩陣
最佳鑒別空間獲得模塊,利用線性判別分析投影矩陣將該特征臉空間進一步降維到k維最佳鑒別空間,獲得人臉圖像的最佳分類特征:
轉換矩陣計算模塊,計算轉換矩陣W=WpcaWlda,以作為最后的投影方向;
投影系數計算模塊,將測試樣本和訓練樣本分別投影到轉換矩陣W,獲得各自的投影系數;
判別模塊,根據最小歐氏距離進行判別。
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