[發明專利]低溫可膨脹石墨的制備方法無效
| 申請號： | 200810040661.1 | 申請日： | 2008-07-17 |
| 公開（公告）號： | CN101327926A | 公開（公告）日： | 2008-12-24 |
| 發明（設計）人： | 馬玉錄;謝林生;湯先文;盧亞云;景軍濤;劉德禮 | 申請（專利權）人： | 華東理工大學 |
| 主分類號： | C01B31/04 | 分類號： | C01B31/04 |
| 代理公司： | 上海順華專利代理有限責任公司 | 代理人： | 陳淑章 |
| 地址： | 200237*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 低溫 膨脹 石墨 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1、一種低溫可膨脹石墨的制備方法，其特征在于，所說制備方法的主要步驟是：將鱗片石墨浸泡在主要由氧化劑和插層劑組成的溶液中進行插層反應，過濾，所得固相物通過水交換法置換出石墨層間的插入物，干燥所得固相物即為目標物。
2、如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，其中所說的氧化劑選自KMnO4、KClO4、NaClO3、(NH4)2S2O7、H2SO4、HNO3、HCIO4或H2O2中一種、二種或二種以上。
3、如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，其中所說的插層劑選自乙酸酐、草酸、三氯化鐵或磷酸中一種、二種或二種以上。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華東理工大學，未經華東理工大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810040661.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
