[發明專利]一種用于光刻設備對準系統的對準標記結構

有效

• 申請號: 200810040234.3
• 申請日: 2008-07-04
• 公開（公告）號: CN101303534A
• 公開（公告）日: 2008-11-12
• 發明（設計）人: 李欣欣;李運鋒;韋學志;宋海軍
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所
• 代理人: 屈蘅;李時云

1、一種用于光刻設備對準系統的對準標記結構，其特征在于：

所述對準標記是二維三周期對準標記，包含六組光柵：

x軸第一光柵、x軸第二光柵和x軸第三光柵，用于x軸方向對準，所述x軸第一光柵、x軸第三光柵和x軸第二光柵沿x軸方向依次排開，所述x軸第一光柵和所述x軸第二光柵為大周期光柵，所述x軸第三光柵為小周期光柵，所述x軸第三光柵離所述x軸第一光柵和所述x軸第二光柵其中之一的距離比到另一個的距離遠；

y軸第一光柵、y軸第二光柵和y軸第三光柵，用于y軸方向對準，所述y軸第一光柵、y軸第三光柵和y軸第二光柵沿y軸方向依次排開，所述y軸第一光柵和所述y軸第二光柵為大周期光柵，所述y軸第三光柵為小周期光柵，所述y軸第三光柵離所述y軸第一光柵和所述y軸第二光柵其中之一的距離比到另一個的距離遠；

所述x軸的光柵和所述y軸的光柵相互垂直，所述x軸第三光柵和與其相距遠的x軸大周期光柵之間的中點，與所述y軸第三光柵和與其相距遠的y軸大周期光柵之間的中點重合。

2、如權利要求1所述的用于光刻設備對準系統的對準標記結構，其特征在于，所述對準標記的x軸和y軸各自的第一光柵、第二光柵和第三光柵的±1級衍射光通過空間濾波分別相干成像在位于像面的參考光柵上。

3、如權利要求2所述的用于光刻設備對準系統的對準標記結構，其特征在于，所述參考光柵包括六組振幅型光柵，分別對應于x軸第一光柵、第二光柵和第三光柵的±1級光柵像和y軸第一光柵、第二光柵和第三光柵的±1級光柵像，所述參考光柵的排列方式與對準標記相同。

4、如權利要求3所述的用于光刻設備對準系統的對準標記結構，其特征在于，所述參考光柵后分別設置有傳輸光纖束。

5、如權利要求1所述的用于光刻設備對準系統的對準標記結構，其特征在于，所述對準標記的x軸和y軸各自的第一光柵、第二光柵和第三光柵的像經過參考光柵調制后的透射光強變化，分別得到x軸和y軸各自的第一光柵對準信號、第二光柵對準信號和第三光柵對準信號。

6、如權利要求5所述的用于光刻設備對準系統的對準標記結構，其特征在于：根據所述x軸和y軸各自的第一光柵對準信號和第二光柵對準信號的位相信息得到對準標記的粗略中心位置，根據所述x軸和y軸各自的第三光柵對準信號的位相信息，并結合對準標記的粗略中心位置得到對準標記的精確中心位置。

7、如權利要求1所述的用于光刻設備對準系統的對準標記結構，其特征在于，所述對準標記的x軸和y軸各自的第一光柵像、第二光柵像和第三光柵像在對準位置時分別與相應的參考光柵中心位置重合，即相位得到匹配，用于粗捕獲對準和精對準，減小對準誤差。