[發明專利]一種雙水解調控制備堿式碳酸鑭納/微米晶體的方法無效
| 申請號： | 200810037849.0 | 申請日： | 2008-05-22 |
| 公開（公告）號： | CN101279757A | 公開（公告）日： | 2008-10-08 |
| 發明（設計）人： | 吳慶生;謝勁松;張達;袁品仕 | 申請（專利權）人： | 同濟大學 |
| 主分類號： | C01F17/00 | 分類號： | C01F17/00 |
| 代理公司： | 上海正旦專利代理有限公司 | 代理人： | 張磊 |
| 地址： | 20009*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 水解 調控 制備 碳酸 微米 晶體 方法 | ||
【權利要求書】：
1、一種雙水解調控制備堿式碳酸鑭納/微米晶體的方法，其特征在于具體步驟如下：
(1)以氧化鑭和碳酸氫銨或甘氨酸為前驅體，以去離子水為溶劑，按比例置于水熱反應釜中，氧化鑭和甘氨酸或碳酸氫銨的摩爾比1∶20-1∶45，去離子水的加入量為容器體積的50-80％；
(2)將步驟(1)中裝有混合料的水熱反應釜置于箱式電阻爐中加熱到150-220℃內，并在該溫度下加熱8-48h，取出容器，自然冷卻至室溫；
(3)洗滌，離心分離，即得所需產品。
2、根據權利要求1所述的雙水解調控制備堿式碳酸鑭納/微米晶體的方法，其特征在于所述氧化鑭、碳酸氫銨、甘氨酸純度不低于化學純。
3、根據權利要求1所述的雙水解調控制備堿式碳酸鑭納/微米晶體的方法，其特征在于步驟(3)中所述洗滌采用去離子水、無水乙醇和丙酮交替洗滌合成產物，交替洗滌3-6次。
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