[發(fā)明專利]一種基于五桿機構(gòu)的平衡質(zhì)量運動裝置及其控制方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810037800.5 | 申請日: | 2008-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN101290478A | 公開(公告)日: | 2008-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳立偉;鄒恒杉;呂洋;袁志揚;陳銳 | 申請(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G05B11/32;G05D3/12 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 201203上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 機構(gòu) 平衡 質(zhì)量 運動 裝置 及其 控制 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光刻設(shè)備的運動裝置,特別涉及光刻設(shè)備的平衡質(zhì)量運動裝置。
背景技術(shù)
光刻機生產(chǎn)過程是一系列的極為復(fù)雜、昂貴、耗時的光刻工藝過程,而光刻機的光刻精度和產(chǎn)率高低直接決定了光刻設(shè)備的設(shè)計和制造。隨著市場對光刻產(chǎn)率需求的提高,且同時要求改善和提高系統(tǒng)的曝光質(zhì)量和曝光精度。在此技術(shù)需求背景下,國外主要光刻設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)均采用了平衡質(zhì)量控制技術(shù)來克服和突破光刻機的工件臺運動時的反作用力外引方式對產(chǎn)率和系統(tǒng)精度的制約。
平衡質(zhì)量控制技術(shù)使得工件臺長行程模塊的負(fù)載質(zhì)量、速度、加速度都相應(yīng)地得到較大幅度地增加。借助平衡質(zhì)量控制技術(shù),工件臺運動反作用于基礎(chǔ)框架的力會大幅降低,這在很大程度上減少了光刻機系統(tǒng)的減振難度,避免了負(fù)載運動的反作用力對系統(tǒng)曝光的干擾。然而,平衡質(zhì)量技術(shù)的引入使得系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計趨于復(fù)雜。
目前,工件臺平衡質(zhì)量系統(tǒng)存在雙層和單層平衡質(zhì)量兩種結(jié)構(gòu),其定位控制的執(zhí)行器系統(tǒng)也主要有兩種方式。一種是采用平衡質(zhì)量直線電機直接驅(qū)動控制方式;另一種是采用旋轉(zhuǎn)電機,借助機構(gòu)運動傳遞來實現(xiàn)平衡質(zhì)量的X、Y、Rz自由度的控制。
對于多自由度的定位臺驅(qū)動控制采用直線電機控制,則需要開發(fā)具有側(cè)向間隙和位移的直線電機,普通直線電機不具有這種功能。這種控制方式的優(yōu)點是三個直線電機可以對X,Y,Rz三個自由度的獨立控制,不存在運動耦合問題,系統(tǒng)無需解耦,其執(zhí)行器系統(tǒng)和測量系統(tǒng)設(shè)計相對簡單,控制策略和控制架構(gòu)方案易于制定。
而采用普通旋轉(zhuǎn)電機通過機構(gòu)運動組合控制平衡質(zhì)量的X,Y,Rz自由度定位,系統(tǒng)需解耦,其執(zhí)行器系統(tǒng)和測量系統(tǒng)設(shè)計相對復(fù)雜些,控制策略和控制架構(gòu)設(shè)計要求相對要高些。但是其硬件方案易于實現(xiàn),成本較低,系統(tǒng)設(shè)計和軟件設(shè)計可以通過各種手段得到彌補或降低開發(fā)難度。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種基于五桿機構(gòu)的平衡質(zhì)量運動裝置及其控制方法,以實現(xiàn)機構(gòu)運動的完全解耦,提高平衡質(zhì)量的運動控制精度,保證垂直軸向精度達到微弧度精度。
為了達到上述的目的,本發(fā)明提供一種基于五桿機構(gòu)的平衡質(zhì)量運動裝置,包括:平衡質(zhì)量;平衡質(zhì)量框架;氣浮系統(tǒng);運動限位裝置和平衡質(zhì)量系統(tǒng)運動糾偏與防漂裝置;該平衡質(zhì)量通過該平衡質(zhì)量系統(tǒng)運動糾偏與防漂裝置連接到該平衡質(zhì)量框架上;該平衡質(zhì)量框架置于該氣浮系統(tǒng)上;該運動限位裝置位于該平衡質(zhì)量系統(tǒng)框架的四個頂角點位置上。
該平衡質(zhì)量系統(tǒng)運動糾偏與防漂裝置包括執(zhí)行器系統(tǒng)和測量系統(tǒng)。該執(zhí)行器系統(tǒng)包括兩組五桿機構(gòu)和四組旋轉(zhuǎn)電機。該兩組五桿機構(gòu)分別包括兩個雙曲柄和兩個連桿,每個雙曲柄兩頭分別連接一組旋轉(zhuǎn)電機和一根連桿,該兩組五桿機構(gòu)關(guān)于該平衡質(zhì)量對偶分布。
該測量系統(tǒng)由四組旋轉(zhuǎn)編碼器通過機構(gòu)運動構(gòu)成。
本發(fā)明還提供一種使用該裝置的方法,該方法可以是獨立運動模式,也可以是跟隨運動模式。
該獨立運動模式中,該平衡質(zhì)量根據(jù)自身獨立的運動軌跡實現(xiàn)平面正交方向及垂直軸向的自由度的單軸運動。
該跟隨運動模式中,該平衡質(zhì)量根據(jù)上層主運動部件的運動軌跡實現(xiàn)平面正交方向、垂直軸向及平面旋轉(zhuǎn)方向的自由度的多軸運動,包括以下步驟:
(1)對上層主運動部件的運動基于平衡質(zhì)量進行絕對測量;
(2)將主運動的設(shè)定值規(guī)劃輸出經(jīng)過乘反向質(zhì)量比增益作為該平衡質(zhì)量平面正交方向的運動參考位置,將主運動設(shè)定值前饋引入到該平衡質(zhì)量平面正交方向跟隨控制的前饋環(huán)路中;
(3)將該平衡質(zhì)量垂直軸向的恒值定位的設(shè)定值位置作為該平衡質(zhì)量垂直軸向的運動參考位置,將該平衡質(zhì)量垂直軸向的設(shè)定值加速度輸入作為該平衡質(zhì)量垂直軸向控制的前饋輸入;
(4)將該平衡質(zhì)量平面旋轉(zhuǎn)方向的恒值定位的設(shè)定值規(guī)劃作為該平衡質(zhì)量平面旋轉(zhuǎn)方向的運動參考位置,將該平衡質(zhì)量平面旋轉(zhuǎn)方向的前饋位置和加速度輸入作為該平衡質(zhì)量平面旋轉(zhuǎn)方向控制的前饋輸入;
(5)該平衡質(zhì)量的執(zhí)行器通過增益平衡解偶實現(xiàn)該平衡質(zhì)量在水平正交方向、垂直軸向及平面旋轉(zhuǎn)方向上的運動。
該執(zhí)行器通過增益平衡解偶實現(xiàn)平衡質(zhì)量在水平正交方向、垂直軸向及平面旋轉(zhuǎn)方向上的運動的方法包括如下步驟:
(1)將傳感器測量轉(zhuǎn)角和測量系統(tǒng)輸出換算成五桿機構(gòu)本身的轉(zhuǎn)動角度;
(2)將控制器輸出轉(zhuǎn)換為鉸支點的力輸出;
(3)根據(jù)五桿機構(gòu)的轉(zhuǎn)動角度將鉸支點輸出力轉(zhuǎn)換成曲柄端點的受力輸出;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海微電子裝備有限公司,未經(jīng)上海微電子裝備有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810037800.5/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:牌照用LED輔助光源
- 下一篇:一種鏈路故障通告方法、接口管理單元和路由器
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





