[發(fā)明專利]一種制備納米顆粒的氣相燃燒反應(yīng)器及其工業(yè)應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810037011.1 | 申請(qǐng)日: | 2008-05-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101264433A | 公開(公告)日: | 2008-09-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡彥杰;劉杰;李春忠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華東理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B01J19/24 | 分類號(hào): | B01J19/24;F23C5/00;F23C3/00 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人: | 衷誠宣 |
| 地址: | 200234*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 制備 納米 顆粒 燃燒 反應(yīng)器 及其 工業(yè) 應(yīng)用 | ||
1.一種氣相燃燒反應(yīng)器,包括高速射流燒嘴和燃燒室,燒嘴位于燃燒室的上部,所述燒嘴由高速射流火焰出口,輔助射流出口和熱水冷卻夾套a、輔助火焰出口及冷卻氣體出口以同軸方式從內(nèi)向外依次排列而成;其特征在于,所述高速射流火焰出口突出噴嘴平面2~50mm,所述輔助射流出口的面積與所述高速射流火焰出口的面積比為1∶3~1∶10;所述輔助火焰出口與所述高速射流火焰出口的徑向距離不超過5D0所述冷卻氣體出口由陣列排布的直徑為0.5~2mm的小孔構(gòu)成,其開孔率為10~40%;所述燃燒室的直徑為8~25D0、長徑比為10~25∶1;所述D0是所述高速射流火焰出口的直徑。
2.權(quán)利要求1所述的氣相燃燒反應(yīng)器在制備納米顆粒中的應(yīng)用方法,其特征在于:
(1)在燒嘴的高速射流火焰出口通入完全預(yù)混的前驅(qū)體蒸汽、第一燃料氣體和氧化氣體,點(diǎn)燃后形成高速射流火焰,由高速射流火焰出口向燃燒室噴出,高速射流火焰出口的氣速為100~180m/s;其中,前驅(qū)體蒸汽是金屬氯化物、金屬醇鹽或其他有機(jī)相金屬鹽類的一種或幾種的混合物,第一燃料氣體是氫氣、小分子碳?xì)浠衔餁怏w的一種或幾種的混合物,氧化氣體是空氣、氧氣的一種或二者的混合物;
(2)經(jīng)凈化干燥的輔助射流氣體由輔助射流出口通入燃燒室、第二燃料氣體由輔助火焰出口通入燃燒室,并點(diǎn)燃形成輔助火焰,輔助射流出口的氣速為80~150m/s;輔助射流氣體是空氣、氧氣、氮?dú)狻鍤庵械囊环N或幾種的混合物;
輔助火焰的出口氣速為20~50m/s,第二燃料氣體是選自氫氣和小分子碳?xì)浠衔餁怏w的一種或幾種與助燃?xì)怏w的混合物,所述助燃?xì)怏w是空氣或氧氣;
(3)以氣速為50~110m/s、經(jīng)冷卻氣體出口通入經(jīng)凈化的冷卻氣體,在火焰外部形成環(huán)形射流,對(duì)反應(yīng)體系進(jìn)行冷卻;冷卻氣體是空氣、氧氣、氮?dú)狻鍤庵械囊环N或幾種;
前驅(qū)體蒸汽和燃燒產(chǎn)生的水蒸氣在燃燒室內(nèi)進(jìn)行高溫水解反應(yīng),反應(yīng)溫度為600~2100℃,反應(yīng)制備的納米顆粒粒徑在5~100nm范圍內(nèi)可控。
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