[發明專利]保證順錐形接觸孔的絕緣層及其制造方法無效
| 申請號： | 200810035062.0 | 申請日： | 2008-03-25 |
| 公開（公告）號： | CN101546746A | 公開（公告）日： | 2009-09-30 |
| 發明（設計）人： | 馬哲國;申智淵 | 申請（專利權）人： | 上海廣電NEC液晶顯示器有限公司 |
| 主分類號： | H01L23/522 | 分類號： | H01L23/522;H01L21/768;H01L21/311 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 | 代理人： | 薛 琦;朱水平 |
| 地址： | 201108上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 保證 錐形 接觸 絕緣 及其 制造 方法 | ||
1、一種保證順錐形接觸孔的絕緣層，其特征在于，其包括：一柵極絕緣層以及依次位于該柵極絕緣層上的第一鈍化層、第二鈍化層、第三鈍化層，該第一鈍化層、第二鈍化層和第三鈍化層形成順錐形的形狀。
2、如權利要求1所述的絕緣層，其特征在于，該第二鈍化層的厚度分別大于第一鈍化層和第三鈍化層的厚度。
3、如權利要求1所述的絕緣層，其特征在于，該第二鈍化層、第一鈍化層和第三鈍化層的厚度之比為21：7：3。
4、一種制造如權利要求2所述的絕緣層的方法，其特征在于，其包括以下步驟：
先形成一柵極絕緣層；
在該柵極絕緣層上形成一第一鈍化層，同時對該第一鈍化層進行刻蝕；
在該第一鈍化層上形成一第二鈍化層，同時對該第二鈍化層進行刻蝕；
在該第二鈍化層上形成一第三鈍化層，同時對該第三鈍化層進行刻蝕。
5、如權利要求3所述的絕緣層的制造方法，其特征在于，該柵極絕緣層、第一鈍化層、第二鈍化層、第三鈍化層都是通過化學氣相沉積方法形成的。
6、如權利要求5所述的絕緣層的制造方法，其特征在于，該化學氣相沉積方法采用硅烷、氨氣、氫氣和氮氣。
7、如權利要求6所述的絕緣層的制造方法，其特征在于，該第三鈍化層的刻蝕速率大于第二鈍化層的刻蝕速率，該第二鈍化層的刻蝕速率大于第一鈍化層的刻蝕速率。
8、如權利要求7所述的絕緣層的制造方法，其特征在于，該第三鈍化層的形成時間分別大于第一鈍化層和第二鈍化層的形成時間。
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