[發明專利]一種基于一維復式光柵結構的高定向平面天線

有效

• 申請號: 200810034702.6
• 申請日: 2008-03-17
• 公開（公告）號: CN101246993A
• 公開（公告）日: 2008-08-20
• 發明（設計）人: 李宏強;武超;魏澤勇;魏雯婕;陳鴻;張冶文
• 申請（專利權）人: 同濟大學
• 主分類號: H01Q1/38
• 分類號: H01Q1/38;H01Q9/04;H01Q13/00;H01Q21/00
• 代理公司: 上海德昭知識產權代理有限公司
• 代理人: 陳龍梅

1.一種基于一維復式光柵結構的高定向平面天線，包括單極子或偶極子 小饋源、金屬底板(5)、介質層(4)和上表面，其特征在于：上表面由設計數 量的周期單元一維平移平鋪于介質層表面構成，所述的每個周期單元由長邊為 200毫米、短邊為20毫米的長方形形狀金屬柵條(1)和長邊為200毫米、短邊 為6毫米的長方形形狀金屬柵條(2)，以及間隙寬度為1毫米的相同寬度的縫 隙(3)排列組合構成；介質層(4)厚度為1.58毫米，介質的介電常數為2.65。

2.一種基于一維復式光柵結構的高定向平面天線，包括單極子或偶極子 小饋源、金屬底板(5)、介質層(4)和上表面，其特征在于：上表面由設計數 量的周期單元一維平移平鋪于介質層表面構成，所述的每個周期單元由長邊為 200毫米、短邊為6毫米的長方形形狀金屬柵條(6)和寬度為1毫米的第III 類縫隙(8)、寬度為8毫米的第II類縫隙(7)排列組合構成；介質層(4)厚 度為1.58毫米，介質的介電常數為2.65。