[發明專利]光催化屏蔽散熱裝置

有效

• 申請號: 200810034097.2
• 申請日: 2008-02-29
• 公開（公告）號: CN101234326A
• 公開（公告）日: 2008-08-06
• 發明（設計）人: 劉引烽;王立平;李煜光;顧蓓蕾;毛金浩;胡和豐;劉麗
• 申請（專利權）人: 上海大學
• 主分類號: B01J19/08
• 分類號: B01J19/08;F21V29/00;F21V29/02
• 代理公司: 上海上大專利事務所
• 代理人: 何文欣

技術領域：

本發明涉及一種光催化屏蔽散熱裝置，該裝置可應用于光催化合成、降解、轉化還原等科研、生產、教學領域。

技術背景：

光催化裝置近年來的發展方向是提高光源的利用率，實現簡便、易行。但是光催化過程中往往有較大熱量，而且有些光源不便直接操作。我們通過國內外催化裝置的總結發現，簡單實用的屏蔽散熱裝置未見報道。

發明內容：

本發明的目的在于針對已有技術存在的缺陷，提供一種新型的光催化屏蔽散熱裝置，作為光催化的重要組成部件，避免光催化反應的光線對操作人員產生輻射影響，避免系統外光線對系統內催化反應產生影響，防止系統和光源過熱。

為達到上述目的，本發明的構思是：

一種新型光催化裝置，包括光屏蔽框架結構和散熱系統，下面分述如下：

一、光屏蔽框架結構：

在進行光催化反應研究中，為了防止紫外線對操作人員的傷害，同時防止外界自然對光化學反應的影響，必須對光源及相關部件進行保護。光屏蔽框架結構即是為此而設計的。

光屏蔽框架結構對光源系統、散熱系統提供相應的支撐作用，同時使光催化體系相對獨立，避免系統中光催化反應所用的光線對操作人員產生輻射影響，也避免系統外的光線對系統內的催化反應體系產生影響。

二、散熱系統：

光催化反應中，光源發生系統長時間工作將產生大量的熱，對光源發生器會造成損害，影響光源發生系統的使用壽命；光源長時間工作后，催化反應體系及其環境溫度也將升高，從而影響光催化反應的穩定性、單源性。

散熱系統即是在此背景下設計的，光催化進行過程中的熱量將通過散熱系統排出。散熱系統的作用是延長光源使用壽命、保證催化反應體系中環境溫度的相對穩定。它包括光源散熱裝置和催化體系散熱裝置兩部分組件。

根據上述發明構思，本發明采用下述技術方案：

一種光催化屏蔽散熱裝置，包括一個光屏蔽箱體，其特征在于所述的光屏蔽箱體能包容光催化系統并配有散熱系統。

上述的光屏蔽箱體是全封閉箱體或半封閉箱體，起到屏蔽內部紫外光不致外泄，防止其輻射對操作人員健康產生影響，同時隔絕外界光線對催化反應體系的影響。

上述的光屏蔽箱體的材質為不銹鋼或鐵或銅或鋁合金等金屬，或者為陶或瓷，或者為木材或耐紫外線耐高溫的聚合物或者為復合材料。

上述的光屏蔽箱體的頂部有一開口，用于安裝催化光源；該光屏蔽箱體的一個側面與背面各有一個開口；所述屏蔽箱體前側開一扇門；所述的門上有玻璃窗口。

上述的散熱系統包括燈頭散熱組件和屏蔽系統散熱組件。

上述的燈頭散熱組件由散熱片、風扇和風扇罩組成，散熱片、風扇和風扇罩依次疊置于屏蔽箱體頂部開口處螺釘穿過其上穿孔而旋接于屏蔽箱體上的螺孔進行固定連接。

上述的屏蔽系統散熱組件由兩組正反安裝的風扇與風扇罩分別安裝于屏蔽箱體側壁一個開口上構成。

本發明與現有技術相比較，具有如下顯而易見的突出實質性特點和顯著優點，本發明采用光屏蔽箱體上安裝散熱系統構成，光催化屏蔽散熱裝置，作為光催化的重要組成部件，避免了光催化反應的光線對操作人員產生輻射影響，避免了系統外光線對系統內催化反應產生影響，防止系統和光源過熱。本裝置結構簡單，適用于光催化合成、降解、轉化還原等科研、生產、教學領域。

附圖說明

圖1是本發明一個實施例的立體結構分解圖。

圖2是體1的右視圖。

具體實施方式

本發明的一個優選實施例結合附圖說明如下：

參考圖1和圖2，本光催化屏蔽散熱裝置包括一個光催化屏蔽箱體1，光屏蔽箱體1能包容光催化系統并配有散熱系統。

光屏蔽箱體1是整體構件，為全封閉或半封閉箱體，起到屏蔽內部紫外光不致外泄，防止其輻射對操作人員健康產生影響，同時隔絕外界光線對催化反應體系的影響。

所述屏蔽箱體所采用的材質可以起到阻止光，尤其是紫外線透過作用?？蛇x用的材質如不銹鋼、鐵、銅、鋁合金等金屬，陶、瓷等無機非金屬，或者木材、耐紫外線耐高溫的聚合物，以及各種復合材料等。

如附圖1所示，光屏蔽箱體1的頂部有開一口2，用于安裝催化光源(該光源在圖中未給出，可隨需要選擇)。

如附圖1所示，右側面與背面各上有一個開口4a、4b，用于固定風扇，起通風散熱的作用。

如附圖1所示，所述屏蔽箱體前側開一扇門3，便于操作者對裝置中各部件的位置加以調節時的觀察，以及在光催化反應過程中便于加樣或取樣。