[發明專利]有機無機復合回音壁模式光學微腔激光器的制備方法無效
| 申請號: | 200810034030.9 | 申請日: | 2008-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN101257185A | 公開(公告)日: | 2008-09-03 |
| 發明(設計)人: | 吳翔;徐雷;劉麗英;李皓 | 申請(專利權)人: | 復旦大學 |
| 主分類號: | H01S5/00 | 分類號: | H01S5/00;H01S5/10;H01S5/30;H01S3/00;H01L21/00 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 | 代理人: | 陸飛;盛志范 |
| 地址: | 20043*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有機 無機 復合 回音壁 模式 光學 激光器 制備 方法 | ||
1、有機無機復合回音壁模式光學微腔激光器的制備方法,其特征在于具體步驟如下:首先,利用溶膠-凝膠法配制折射率較低的有機無機復合材料溶液,利用旋涂甩膜法在硅片(1)上制備襯底層(2),并用紫外光(3)照射樣品,使其中的有機部分聚合,再將樣品放入烘箱中處理,使薄膜進一步固化;其次,配制折射率較高的有機無機復合材料溶液,并在其中摻雜有機熒光染料或者量子點作為激光的增益介質,利用旋涂甩膜法在襯底層(2)上制備有源層(4);再次,利用紫外光刻技術將掩模板(5)上的微腔圖形轉移到有源層(4)上,再利用濕法刻蝕工藝,刻蝕出微腔(6);最后,在制備好的樣品上制備一層覆蓋層(7);其中:
所述有機無機復合材料是由甲基丙烯酸丙脂基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酸和丙氧基鋯烷三種材料經水解聚合而成。其中,丙氧基鋯烷為折射材料;所述折射較低的有機無機復合材料是指含鋯量為4-10%的復合材料,所述折射率較高的有機無機復合材料是指含鋯量為18-25%的復合材料,這里的百分比為摩爾比。
2、根據權利要求1所述的有機無機復合回音壁模式光學微腔激光器的制備方法,其特征在于作為激光的增益介質為有機熒光染料或量子點,摻雜量為有機無機復合材料重量的4-8%。
3、根據權利要求1所述的有機無機復合回音壁模式光學微腔激光器的制備方法,其特征在于所述的覆蓋層(7)的材料為有機聚合物或無機二氧化硅材料,制備方法為拉膜方法或PECVD方法。
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