[發明專利]用于啁啾脈沖放大的自準直平面調制光譜調制整形裝置

無效

• 申請號: 200810033888.3
• 申請日: 2008-02-26
• 公開（公告）號: CN101231384A
• 公開（公告）日: 2008-07-30
• 發明（設計）人: 李銘;戴亞平;王韜;張彬;范正修
• 申請（專利權）人: 上海激光等離子體研究所
• 主分類號: G02B17/06
• 分類號: G02B17/06;G02B27/09;H01S3/10
• 代理公司: 成都科海專利事務有限責任公司
• 代理人: 劉雙蘭;嚴禮華

1.一種用于啁啾脈沖放大的自準直平面調制光譜調制整形裝置，其特征在于，按設計光路順序描述，包括第一分光棱鏡(8)，第二分光棱鏡(9)，和1/4波片(7)；包括由第一凹面反射鏡(1)，第一光闌(6)和第二凹面反射鏡(2)構成照明系統；進一步包括由第一光闌(6)，第二凹面反射鏡(2)，光柵(3)，第三凹面反射鏡(4)及第二光闌(10)構成自準直平面調制CTSI光譜分解系統；由第二光闌(10)與其上的平面光譜調制反射鏡(5)構成光譜調制系統；由中心對稱凹面反射鏡(4″)，第二光闌(10)及其上的平面光譜調制反射鏡(5)，第三凹面反射鏡(4)，光柵(3)，第二凹面反射鏡(2)及第一光闌(6)構成自準直平面調制CTSI光譜合成系統；來自CPA前端(0)的激光光束由第一分光棱鏡起偏，通過1/4波片及第一凹面反射鏡，經第一凹面反射鏡變為平行光束，通過上述光譜分解系統，光譜調制系統及光譜合成系統完成光譜分解、調制及合成的啁啾脈沖再通過1/4波片，偏振旋轉90度，在第一分光棱鏡處全反射到第二分光棱鏡起偏，然后輸入到后級固體放大介質(0′)中放大。

2.根據權利要求1所述的自準直平面光譜調制整形裝置，其特征在于，所述光柵(3)采用可逆反射式定向平面閃耀光柵。

3.根據權利要求1所述的自準直平面光譜調制整形裝置，其特征在于，所述凹面反射鏡均要求在整個工作波段內嚴格消除色差、球差，彗差，像散和場曲，使譜像面對于平面光譜調制反射鏡表面的最大偏離小于按瑞利準則導出的半焦深容限。

4.根據權利要求1所述的自準直平面光譜調制整形裝置，其特征在于，所述中心對稱凹面反射鏡(4″)與第三凹面反射鏡(4)相對光譜調制反射鏡成對稱，由中心對稱凹面反射鏡(4″)反射經原路返回構成自準直光路系統。

5.根據權利要求1所述的自準直平面光譜調制整形裝置，其特征在于，所述第一光闌(6)為實共焦望遠鏡像傳遞照明系統的光闌；所述照明系統在保證正常寬度要求的相干同相入射的條件下，不改變來自CPA前端的激光束的時間和空間分布，與色散系統和成像系統的相對孔徑匹配，且保證通光口徑能充滿色散系統的口徑；所述第一光闌(6)采用孔徑光闌，第二光闌(10)為檔光板與其在平面光譜調制反射鏡(5)中的像構成的狹縫光闌。所有光闌均應滿足孔徑的正常寬度a₀條件，或滿足CTSI光譜分解系統和CTSI光譜合成系統能達到的衍射半寬度a₀條件，同時第二光闌(10)與第一光闌(6)應通過激光啁啾脈沖帶寬內所有頻譜的光。

6.根據權利要求1所述的自準直平面光譜調制整形裝置，其特征在于，所述光學元件全部選用相對色散元件成對稱型的成像系統，或者相對色散元件成不對稱補償像差的成像系統。

7.根據權利要求1所述的自準直平面光譜調制整形裝置，其特征在于，所述平面光譜調制反射鏡(5)采用多層介質膜微浮雕結構的平面光譜調制反射鏡；或微鏡結構反射鏡；或液晶光閥；或前加變柵距光柵的反射鏡；或前加液晶空間光調制器的反射鏡；或微機電薄膜反射鏡MIMS；或連續變形反射鏡；或Bimorph變形鏡；或棱鏡/波導耦合反射鏡；或變柵距光柵反射鏡。

8.根據權利要求1所述的自準直平面光譜調制整形裝置，其特征在于，所述第一分光棱鏡(8)與第二分光棱鏡(9)位置相互垂直。

9.根據權利要求1所述的光譜調制整形裝置，其特征在于，所述CTSI光譜分解系統和CTSI光譜合成系統中的凹面反射鏡相對色散元件呈反射式水平成像光譜系統，或呈反射式垂直成像光譜系統。

10.根據權利要求1所述的光譜調制整形裝置，其特征在于，所述CTSI光譜分解系統與CTSI光譜合成系統相對平面光譜調制反射(5)鏡呈反射式水平成像光譜調制系統，或呈反射式垂直成像光譜調制系統。