[發明專利]一種電機單雙層混合線圈下線工藝

有效

• 申請號: 200810033603.6
• 申請日: 2008-02-15
• 公開（公告）號: CN101286677A
• 公開（公告）日: 2008-10-15
• 發明（設計）人: 劉憬奇;姚鵬;吳艷紅;胡春雷
• 申請（專利權）人: 上海電科電機科技有限公司;上海電器科學研究所(集團)有限公司
• 主分類號: H02K15/06
• 分類號: H02K15/06
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司
• 代理人: 白璧華

技術領域

本發明涉及一種電機單雙層混合線圈下線工藝，屬于電機制造技術領域。

背景技術

電機是目前世界各國進行機電能量轉換中使用最廣泛的一種裝置，在國民經濟的各個領域有著廣泛的應用，屬于量大面廣的產品。

隨著電機導線材料在電機綜合成本中的比重不斷增加，加上各國均在電機的性能指標(如效率等)上的要求有所提高，因此既能降低成本、又能提高性能的各種繞組設計層出不窮，單雙層混合式繞組就是其中之一。它不僅保留了雙層繞組短距后能夠削弱諧波磁動勢、改善起動性能的優點，又具有單層繞組無需層間絕緣、槽滿率較高、線圈數量少等優點，而且可以節省用料，提高效率。

以三相18槽2極單雙層繞組為例(見附圖1)，說明在以往的單雙層混合線圈下線工藝中存在的問題。

①假設第8、9槽為選定的起嵌槽，將第一個線圈組(由大、小線圈各一構成一個線圈組)的兩個下層線圈邊分別嵌入第8槽和第9槽，其上層邊暫時吊起不嵌(注：嵌入第9槽中的是單層線圈邊，由于該線圈邊端部是被壓在其他線圈下面的，因此也稱下層邊)。

②空一槽，把第二個線圈組的兩個下層邊分別嵌入第11、12槽，其上層邊暫時也吊起不嵌。

③再空一槽，把第三個線圈組的兩個下層邊分別嵌入第14、15槽，并將小線圈的上層邊按照跨距γ＝1-7，嵌入第8槽(雙層槽中，嵌入上層邊前，應先放好層間絕緣)，大線圈的上層邊嵌入第7槽。

④按照隔一個槽嵌入一組線圈的規律，嵌完其余線圈。

⑤最后把吊起邊依次分別嵌入第1、2、4和第5槽。

⑥同相線圈組之間“反串”連接。

綜上所述，由于雙層線圈需要將所占槽全部填滿，在相與相繞組之間存在交叉，下線時必須將單雙層線圈中的雙層線圈吊起，而且有幾個雙層線圈就要吊起幾個，生產時既影響質量，又影響生產速度，所以使用范圍受到很大限制。

發明內容

本發明的目的在于提供一種電機單雙層繞組下線新工藝，本工藝采用“相”與“相”分別下線，解決了相與相單雙層線圈之間存在交叉的問題，提高了生產效率。

為達到上述目的，本發明的技術方案是：采用“相”與“相”分別下線的新工藝，其步驟是：即先把一相全部下到槽的下層邊(該相單層大線圈將所占槽全部填滿)，中間一相分別放所占空槽的下層邊和與前面一相相遇時放在上層邊(該相單層大線圈也將所占槽全部填滿)，最后一相則全部下到所占槽的上層邊(該相單層大線圈將所占槽全部填滿)；無論電機有幾個線圈組，均按照相的順序依次嵌完，沒有吊起線圈。

本發明的有益效果：已在部分樣機試制中得到驗證，證明不僅可以節約材料用量，而且可以同時提高電機性能，提高生產效率，是一種很好的下線新工藝，必將產生經濟效益。

以下結合附圖和實施例對本發明作比較詳細地說明。

附圖說明

圖1為現有技術的電機單雙層繞組下線工藝展開圖；

圖2為本發明的電機單雙層繞組下線工藝展開圖。

具體實施方式

參照圖1，這是現有技術的電機單雙層繞組下線工藝展開圖。

如圖所示，①假設第8、9槽為選定的起嵌槽，將第一個線圈組(由大、小線圈各一構成一個線圈組)的兩個下層線圈邊分別嵌入第8槽和第9槽，其上層邊暫時吊起不嵌(注：嵌入第9槽中的是單層線圈邊，由于該線圈邊端部是被壓在其他線圈下面的，因此也稱下層邊)。

②空一槽，把第二個線圈組的兩個下層邊分別嵌入第11、12槽，其上層邊暫時也吊起不嵌。

③再空一槽，把第三個線圈組的兩個下層邊分別嵌入第14、15槽，并將小線圈的上層邊按照跨距γ＝1-7，嵌入第8槽(雙層槽中，嵌入上層邊前，應先放好層間絕緣)，大線圈的上層邊嵌入第7槽。

④按照隔一個槽嵌入一組線圈的規律，嵌完其余線圈。

⑤最后把吊起邊依次分別嵌入第1、2、4和第5槽。

⑥同相線圈組之間“反串”連接。

參照圖2，這是本發明的電機單雙層繞組下線工藝展開圖。

如圖所示，①先下U相所占各槽線圈：假設第8、9槽為選定的起嵌槽，將第一個線圈組(由大、小線圈各一構成一個線圈組)的兩個線圈邊分別嵌入第8槽和第9槽的下層邊，其另一邊分別嵌入第1槽和第2槽的下層邊(注：嵌入第9槽中的是單層線圈邊，由于該線圈邊端部是被壓在其他線圈下面的，因此也稱下層邊)；U相另一個線圈組的兩個線圈邊分別嵌入第10槽和第11槽的下層邊，其另一邊分別嵌入第17槽和第18槽的下層邊。至此U相全部嵌完，全部位于槽的下層邊(該相單層大線圈將所占槽全部填滿)。