[發明專利]塑料薄膜鍍鋁方法

有效

• 申請號: 200810033524.5
• 申請日: 2008-02-04
• 公開（公告）號: CN101503790A
• 公開（公告）日: 2009-08-12
• 發明（設計）人: 洪曉冬;曾文東
• 申請（專利權）人: 上海永超真空鍍鋁有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/20;C23C14/56
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 胡美強

技術領域

本發明涉及一種真空鍍鋁材料的生產方法。

背景技術

塑料薄膜本身的物理特性以及它的透明度所決定了它是不具備導電功能的。

因此通過在聚酯薄膜表面均勻的鍍上一層金屬材料——鋁，生產好以后經過24小時金屬鋁分子的結構固化以后，會使該產品具備了很強的導電功能。以下是對該產品的簡單介紹：

電子屏蔽鍍鋁膜：電子工業作為二十一世紀的支柱產業，它的作用越來越大，而作為電子產品的“保護神”——電子屏蔽包裝袋則是電子產品中必不可少的產物。那么電子屏蔽包裝膜主要是根據物理原理法拉弟電籠原理而設計生產的，而真空鍍鋁恰恰就是解決這個原理最好的一個工藝手段，PET薄膜經過真空鍍鋁以后主要形成了以下幾個方面的作用以及如果鍍鋁工藝不均勻也會造成以下問題：

(1)PET薄膜經過真空鍍鋁以后，表面就形成了金屬層，于是也就形成了導電網絡，但是如果普通的真空鍍鋁則：(1)影響了包裝的可視性；(2)屏蔽性能達不到要求1分＜46dB電磁波。因此，如果真空鍍鋁厚度不均勻，根本就無法保證屏蔽性能。

(2)如果真空鍍鋁均勻度不好的話，就會造成PET薄膜的鋁層，一邊很透明，一邊半透明，那么根據法拉弟電籠屏蔽的原理要求，產品的表面就會有盲?點，造成有空洞區域，就無法保證產品的屏蔽性能。

發明內容

本發明需要解決的技術問題是提供了一種塑料薄膜鍍鋁鍍鋁方法，旨在解決上述的問題。

為了解決上述技術問題，本發明是通過以下步驟實現的：

打開真空箱，將塑料薄膜裝放于放卷軸上，固定于穿膜帶上，自動穿膜，進入生產準備狀態；

在真空箱內安裝N條材性是二硼化碳的蒸發舟；N是正整數；

在真空箱內安裝N盤普通鋁絲，鋁絲純度為99.99％以上；

將真空箱關閉；

進行抽氣，將真空室內的真空度數值抽到3.5×10^-4mbar以上；

將鍍膜鼓的溫度設定為0℃-2℃；

將蒸發舟的工作溫度數值設定為1300℃～1350℃；

將鋁絲的送絲速度設定為200mm/min～280mm/min；

將鍍膜的卷繞速度設定為9.5m/秒～13m/秒；

開啟等離子裝置；

將鋁層厚度設定為3.5Ω/□(300)-54Ω/□(60)；

觀察鍍鋁層的均勻度，均勻度的要求在±2％以內。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：鍍鋁層的厚度以及均勻度的誤差從±10％以上提到±3％的精度，滿足了產品質量的要求。

具體實施方式

下面結合具體實施方式對本發明作進一步詳細描述：

由于產品本身的用途都是金屬導電以及光線有關聯，主要是通過導電作用達到產品的最終用途，通過本發明生產此類產品與原來工藝相比：鍍鋁層的厚度以及均勻度的誤差從±10％以上提到±3％的精度。

打開真空箱，將塑料薄膜裝放于放卷軸上，固定于穿膜帶上，自動穿膜，進入生產準備狀態；

在真空箱內安裝N條材性是二硼化碳的蒸發舟；N是正整數；

在真空箱內安裝N盤普通鋁絲，鋁絲純度為99.99％以上；

所述的N是22；

對輔材鋁絲純度的對比

a：現有技術：生產普通鍍鋁膜產品，在蒸鍍時只要求鋁絲的純度達到99.8％即可；

b：本發明：生產電子屏蔽鍍鋁膜產品，在蒸鍍時則要求鋁絲純度必須達到99.99％以上；

本發明與現有技術的對比：由于普通鍍鋁膜對表面的鋁層覆蓋面要求不高，而電子屏蔽鍍鋁膜對表面的鋁層覆蓋面要求高，因此，采用高純度的鋁絲，在生產時，可防止亮點、鋁濺射等現象，且送絲穩定，產品光澤度好。

真空度對比

a、現有技術：一般普通鍍鋁膜產品在蒸鍍時對真空度的數值要求達到8.0×10^-4mbar以上即可；

b、本發明：特殊鍍鋁膜產品在蒸鍍時對真空度的數值要求非常高，必須達到3.5×10^-4mbar。

本發明與現有技術的對比：如果真空度不好的情況下生產電子屏蔽鍍鋁膜?會造成均勻度很差。因此，此產品必須在高真空的狀態下鋁層才能非常均勻的蒸鍍在薄膜表面。

鍍膜時鍍膜鼓的溫度設定對比

a、現有技術：一般普通鍍鋁膜產品在蒸鍍的時候要求鍍膜鼓溫度設為-10℃～-15℃；

b、本發明：在生產電子屏蔽鍍鋁膜過程中，鍍膜鼓的溫度要求必須設定在0℃-2℃。