[發(fā)明專利]一種光刻機(jī)雜散光的自動(dòng)測(cè)量方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810032843.4
• 申請(qǐng)日: 2008-01-21
• 公開（公告）號(hào): CN101221369A
• 公開（公告）日: 2008-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李術(shù)新
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所
• 代理人: 屈蘅;李時(shí)云

1.一種光刻機(jī)雜散光的自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)，其特征在于，包括，

光源，用于產(chǎn)生投影光束；

照明系統(tǒng)，用于調(diào)整所述光源發(fā)出光束的光強(qiáng)分布和部分相干因子；

掩模，位于掩模臺(tái)上，用于將所述照明系統(tǒng)射出的光線進(jìn)行選擇后選擇一部分透出；

成像光學(xué)系統(tǒng)，用于將所述掩模透出的光線曝光成像在硅片上；

對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，用于獲取對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置；

工件臺(tái)，用于承載所述硅片；

激光干涉儀，用于實(shí)現(xiàn)工件臺(tái)的精確定位。

2.一種利用權(quán)利要求1所述光刻機(jī)雜散光的自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)進(jìn)行光刻機(jī)雜散光自動(dòng)測(cè)量的方法，其特征在于，包括，

步驟1、將特定的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記曝光到硅片不同位置上，形成n個(gè)曝光場(chǎng)；

步驟2、對(duì)于所形成的n個(gè)曝光場(chǎng)內(nèi)的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，選取m個(gè)，對(duì)其以設(shè)定劑量的雜散光進(jìn)行曝光；

步驟3、對(duì)剩下的n-m個(gè)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，對(duì)其以待測(cè)的雜散光進(jìn)行曝光；

步驟4、顯影后，利用離軸對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)測(cè)量所有所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)位置；

步驟5、利用步驟2中曝光標(biāo)記的測(cè)量結(jié)果，建立雜散光與所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)位置的對(duì)應(yīng)關(guān)系；

步驟6、根據(jù)步驟3種曝光標(biāo)記的測(cè)量結(jié)果，以及步驟5中得到的對(duì)應(yīng)關(guān)系，求得系統(tǒng)雜散光。

3.如權(quán)利要求2所述的一種光刻機(jī)雜散光的自動(dòng)測(cè)量方法，其特征在于，所述步驟1中，特定的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記其成像位置重心隨雜散光的大小而改變。

4.如權(quán)利要求3所述的一種光刻機(jī)雜散光的自動(dòng)測(cè)量方法，其特征在于，所述特定的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)為鏡像焦面檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。

5.如權(quán)利要求2所示的一種光刻機(jī)雜散光自動(dòng)測(cè)量方法，其特征在于，所述步驟6中，可以將焦點(diǎn)標(biāo)記的位置求平均后在利用對(duì)應(yīng)關(guān)系求得雜散光；也可以先利用對(duì)應(yīng)關(guān)系求得雜散光后，再求平均值。